Metastability and instability effects due to oxygen exposure in thick intrinsic hydrogenated microcrystalline silicon films deposited by very high frequency plasma enhanced chemical vapour deposition on smooth glass substrates were investigated using temperature-dependent dark conductivity, steady state photoconductivity, and sub-bandgap absorption measurements obtained using the dual beam photoconductivity (DBP) method. No significant changes in dark conductivity and photoconductivity were detected even after long-term air exposure of samples in room ambient as well as after oxygen exposure when samples were characterized in oxygen ambient. However, characterization of the oxygen-exposed state in high vacuum caused an increase in dark conductivity and photoconductivity as well as a significant decrease in the sub-bandgap absorption coefficient spectra in the low energy region in samples with I C RS Ͼ 0.40. These changes are partially irreversible for samples I C RS Ͼ 0.80 and mostly reversible for compact materials with significant amorphous fraction. No detectable metastable changes occurred in microcrystalline silicon samples with I C RS Ͻ 0.40 as well as in pure amorphous silicon.Résumé : Nous utilisons la conductivité en obscurité, la photoconductivité stationnaire et des mesures d'absorption sous la bande interdite obtenues de la méthode de photoconductivité à deux faisceaux (DBP), afin d'étudier les effets stables et métastables de l'exposition à l'oxygène de films de silicium microcristallins hydrogénés épais déposés par plasma à haute fréquence augmenté d'un dépôt de vapeur chimique sur un substrat de verre lisse. Nous ne détectons aucun changement de la conductivité en obscurité ni de la photoconductivité, même après une longue exposition à l'air à température ambiante, aussi bien qu'après exposition à l'oxygène où les échantillons sont examinés dans une atmosphère d'oxygène. Cependant, étudier sous vide les échantillons exposés à l'oxygène donne une augmentation de la conductivité en obscurité, aussi bien que de la photoconductivité, en même temps qu'une diminution significative de l'absorption sous la bande interdite dans les échantillons avec I C RS Ͼ 0.40. Ces changements sont partiellement réversibles pour les échantillons avec I C RS Ͼ 0.80 et majoritairement réversibles pour les matériaux compacts avec une fraction amorphe importante. Nous ne détectons aucun changement méta-stable dans les échantillons de silicium microcristallin avec I C RS Ͻ 0.40 ni dans le silicium complètement amorphe. [Traduit par la Rédaction]