Surface Morphology of Y2O3:Eu Thin Films at Different Activator Concentrations

Abstract

Atomic force microscopy is used to study the surface morphology of thin Y 2 O 3 :Eu films obtained by the radio-frequency ion-plasma sputtering with an activator concentration of 1.0, 2.5, and 5 mol.%. Based on the analysis of the obtained results, an almost linear dependence of the sizes of surface structures on the value of the activator concentration and a superlinear increase in both the root-mean-square surface roughness and the average distance between grains are revealed. The obtained results are discussed.Методою атомно-силової мікроскопії (АСМ) досліджено морфологію поверхні тонких плівок Y 2 O 3 :Eu, одержаних методою високочастотного (ВЧ) йонно-плазмового розпорошення, з концентрацією активатора у 1,0, 2,5 та 5 мол.%. На основі аналізи одержаних результатів встановлено практично лінійну залежність розмірів поверхневих структур від величини концентрації активатора та надлінійне зростання середньоквадратичної шерсткости поверхні та середньої віддалі між зернами. Проведено обговорення одержаних результатів.