Synthesis and characterization of LiNbO 3 nanocrystals prepared by the aerosol assisted chemical vapor deposition method

Facile synthesis of novel lithium β-diketonate glyme adducts: the effect of molecular engineering on the thermal properties

“…Very few lithium precursors are known for vapour phase processes, either MOCVD or atomic layer deposition. 19,20 Our previous studies have shown that glymes play a pivotal role in stabilizing complexes with the desired thermal properties for MOCVD applications. 21,22 Glymes often behave like crown ethers in terms of coordinating/solvating ions of the alkaline-earth, 23,24 the transition 25,26 and the rare-earth metals 22,27 through oxygen-ion complexation i.e.…”

Growth of Single-Crystal LiNbO3 Particles by Aerosol-Assisted Chemical Vapor Deposition Method

“…The LN nanocrystals were prepared following the same procedure used to obtain a thin film by the AACVD method as described in Refs. [24,25]. That is, a silicon (0 0 1) or sapphire (1 1 0) substrate (1.5 × 1.5 cm 2 ) was used as a support medium for nanoparticle growth.…”

Construcción e implementación de equipos de depósito químico usando las técnicas: Depósito químico de vapor asistido por aerosol (AACVD) y Sol –Gel por inmersión

“…No es necesario realizar tratamiento térmico posterior al depósito para obtener nanomateriales, películas delgadas con buena adherencia, etc. En la Figura 1.4 se presenta un diagrama esquemático del AACVD donde se presenta la ubicación del atomizador, la solución precursora, el gas de arrastre necesario para transportar las gotas hasta el sustrato que está en contacto con el horno para calentarlo y se observa que la cámara de nebulización es fija (tobera) (Ocón, Murillo, Miki-Yoshida, Cardoza, & Contreras-López, 2014). Esta configuración fue empleada para obtener nano cristales de LiNbO 3 usando un nebulizador de 2.4 MHz para generar la solución precursora en forma de aerosol y llevarla por medio del gas transportador hasta el sustrato a través de una tobera fija.…”

“…Figura 1.4. Configuración experimental de un equipo AACVD con boquilla y nebulización hacia arriba Fuente: (cámara de nebulización) fija (Ocón, Murillo, Miki-Yoshida, Cardoza, & Contreras-López, 2014) El equipo que se implementó en la UTP tiene una distribución similar al presentado en la Figura 1.4, donde el depósito se realiza hacía arriba, pero la boquilla (tobera) se mueve a velocidad constante permitiendo al usuario elegir un valor en el rango entre 0.2 cm/min y 1.0 cm/min. Además, se diseñó un sistema de control para los parámetros de depósito, que permite al usuario estipular el número de capas que se desean depositar, la distancia que recorrerá la tobera para hacer el depósito sobre el sustrato, el número de capas y elegir un tiempo de espera entre capa y capa.…”