2018
DOI: 10.1002/smll.201802351
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Synthesis of Large‐Area InSe Monolayers by Chemical Vapor Deposition

Abstract: Recently, 2D materials of indium selenide (InSe) layers have attracted much attention from the scientific community due to their high mobility transport and fascinating physical properties. To date, reports on the synthesis of high-quality and scalable InSe atomic films are limited. Here, a synthesis of InSe atomic layers by vapor phase selenization of In O in a chemical vapor deposition (CVD) system, resulting in large-area monolayer flakes or thin films, is reported. The atomic films are continuous and unifo… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2
2
1

Citation Types

0
56
0
2

Year Published

2018
2018
2023
2023

Publication Types

Select...
6
2
1

Relationship

0
9

Authors

Journals

citations
Cited by 96 publications
(58 citation statements)
references
References 46 publications
0
56
0
2
Order By: Relevance
“…In addition, smaller exciton reduced mass makes InSe undergoing stronger quantum confinement effect than other III–VI members, resulting in good controllability on the bandgaps by the layer number . Rapid advances in preparing high quality mono‐ and few‐layer InSe nanosheets by mechanical exfoliation, liquid‐based exfoliation, PLD, chemical vapor deposition (CVD), etc., have paved the way for developing nano‐optoelectronic devices. For instance, Tamalampudi, etc., have demonstrated high performance photodetectors based on mechanical exfoliated few‐layer InSe on both rigid and flexible substrates .…”
Section: Iii–vi Semiconductor‐based Optoelectronic Devicesmentioning
confidence: 99%
“…In addition, smaller exciton reduced mass makes InSe undergoing stronger quantum confinement effect than other III–VI members, resulting in good controllability on the bandgaps by the layer number . Rapid advances in preparing high quality mono‐ and few‐layer InSe nanosheets by mechanical exfoliation, liquid‐based exfoliation, PLD, chemical vapor deposition (CVD), etc., have paved the way for developing nano‐optoelectronic devices. For instance, Tamalampudi, etc., have demonstrated high performance photodetectors based on mechanical exfoliated few‐layer InSe on both rigid and flexible substrates .…”
Section: Iii–vi Semiconductor‐based Optoelectronic Devicesmentioning
confidence: 99%
“…Nano-teknologi adalah topik yang sangat beragam, tetapi beberapa contoh terbaik dari R & D nanoscale yang ada daerah heterostruktur epitaxial untuk laser dioda dan LED yang dikembangkan oleh CVD. Banyak dari perangkat ini mengandung dua dimensi (2-D) Sumur kuantum atau superlattices terdiri dari lapisan epitaxial tegang yang tebal 1-10 nm.Contoh.Selain sumur kuantum, struktur laser seperti permukaan rongga vertikal memancarkan laser (VCSEL) berisi tumpukan cermin terdiri dari sejumlah besar lapisan dengan bahan semikonduktor yang Tebal biasanya 50-100 nm (162)(163)(164)(165). Ketebalan setiap lapisan seringkali harus dikontrol dengan presisi yang lebih baik dari 1 nm.Meskipun persyaratan ini perangkat dapat tumbuh secara rutin dengan relatif hasil tinggi dalam OMVPE tersetel dan terkalibrasi reactor (62; 113; 166; 167).…”
Section: B Aplikasi Chemical Vapor Deposisiunclassified
“…Nano-teknologi adalah topik yang sangat beragam, tetapi beberapa contoh terbaik dari R & D nanoscale yang ada daerah heterostruktur epitaxial untuk laser dioda dan LED yang dikembangkan oleh CVD. Banyak dari perangkat ini mengandung dua dimensi (2-D) Sumur kuantum atau superlattices terdiri dari lapisan epitaxial tegang yang tebal 1-10 nm.Contoh.Selain sumur kuantum, struktur laser seperti permukaan rongga vertikal memancarkan laser (VCSEL) berisi tumpukan cermin terdiri dari sejumlah besar lapisan dengan bahan semikonduktor yang Tebal biasanya 50-100 nm (161)(162)(163)(164). Ketebalan setiap lapisan seringkali harus dikontrol dengan presisi yang lebih baik dari 1 nm.Meskipun persyaratan ini perangkat dapat tumbuh secara rutin dengan relatif hasil tinggi dalam OMVPE tersetel dan terkalibrasi reactor (62; 113; 165; 166).…”
Section: B Aplikasi Chemical Vapor Deposisiunclassified