The Field Emission Initiated Vacuum Arc. I. Experiments on Arc Initiation

Dyke, W. P.; Trolan, J. K.; Martin, E. E.; Barbour, J. P.

doi:10.1103/physrev.91.1043

Cited by 220 publications

(60 citation statements)

References 22 publications

Supporting

Mentioning

Contrasting

Unclassified

Order By: Relevance

“…Plasma formation is closely related to the electron emission mechanism, which is thermally unstable thermo-field emission [96,97], a locally concentrated, non-linear superposition of field emission [98,99] and thermionic emission [100]. This is also known as explosive emission [101], and the arc spot may be considered as a sequence of rapid microscopic explosions [92,102].…”

Section: Cathodic Arc Plasma Production With Emphasis On Pulsed Arcsmentioning

confidence: 99%

A review comparing cathodic arcs and high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS)

Anders

2014

Surface and Coatings Technology

242

109

View full text Add to dashboard Cite

High power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) has been in the center of attention over the last years as it is an emerging physical vapor deposition (PVD) technology that combines advantages of magnetron sputtering with various forms of energetic deposition of films such as ion plating and cathodic arc plasma deposition. It should not come at a surprise that many extension and variations of HiPIMS make use, intentionally or unintentionally, of previously discovered approaches to film processing such as substrate surface preparation by metal ion sputtering and phased biasing for film texture and stress control. Therefore, in this review, an overview is given on some historical developments and features of cathodic arc and HiPIMS plasmas, showing commonalities and differences. To limit the scope, emphasis is put on plasma properties, as opposed to surveying the vast literature on specific film materials and their properties.

show abstract

Section: Cathodic Arc Plasma Production With Emphasis On Pulsed Arcsmentioning

confidence: 99%

A review comparing cathodic arcs and high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS)

Anders

2014

Surface and Coatings Technology

242

109

View full text Add to dashboard Cite

show abstract

“…It is well established that the high fields located at sharp points on the cathode cause field emission of electrons. The electrons are accelerated by the electric field and bombard the anode (., 3,4,5,6, 7} The question arises: are there any secondary effects at the anode which, in turn, could generate secondary electrons to obtain a self-sustained discharge?…”

Section: Background a Comprehensive Discussion Of Gaseous Breakdown mentioning

confidence: 99%

Dielectrics for Satellites and Space Vehicles

Frisco¹,

Muhlbaum²,

Szymkowiak³

1963

View full text Add to dashboard Cite

“…44 с помощью несложного элек-тронно-оптического устройства были сняты фотографии участков катода, излучающих электроны. Работа велась с импульсами дли-тельностью 1 мксек.…”

Section: к)unclassified

Современные Представления О Механизме Электрического Пробоя В Высоком Вакууме

Tarasova¹

1956

Usp. Fiz. Nauk

View full text Add to dashboard Cite

ВВЕДЕНИЕВ настоящее время в науке и технике широко используются изолирующие свойства вакуума. Ускорители заряженных частиц,, рентгеновские трубки, электроннолучевые трубки, электронные микро-скопы, вакуумные конденсаторы -таков далеко не полный перечень приборов, работа которых связана с электрической прочностью вакуумного зазора. В связи с этим возникла необходимость изучить и объяснить механизм возникновения и развития электрического разряда в высоком вакууме.При уменьшении давления газа (обычно при /?<^10~3 -10~4 мм рт. ст.) средняя длина свободного пробега молекул и носителей зарядов -электронов и ионов -становится больше размеров межэлектродного промежутка. В этих условиях электроны и ионы практически не сталкиваются с молекулами остаточного газа в объёме, не происходит ионизация и не развиваются лавинные процессы, необходимые для образования газового разряда. Но экспе-рименты показывают, что такая высоковакуумная прослойка не является идеальным изолятором. При определённых условиях неизбежно воз-никает разряд. Так же как и при пробое газовых промежутков высокого давления, токи при пробое вакуумного зазора можно счи-тать ограниченными лишь сопротивлением цепи источника тока. Большинство экспериментальных данных указывает на независимость пробивного напряжения вакуумного промежутка от дальнейшего-понижения давления остаточного газа в разрядном объёме. Следо-вательно, все носители электричества возникают либо на электродах,, либо на стенках прибора.Вакуум, как и всякий реальный изолятор, обладает некоторой проводимостью. Если не учитывать ничтожного влияния остаточных газов в объёме, а также токов термоэлектронной эмиссии, незначи-тельных при нормальной температуре, то стабильную проводимость

show abstract

The Field Emission Initiated Vacuum Arc. I. Experiments on Arc Initiation

Cited by 220 publications

References 22 publications

A review comparing cathodic arcs and high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS)

A review comparing cathodic arcs and high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS)

Dielectrics for Satellites and Space Vehicles

Современные Представления О Механизме Электрического Пробоя В Высоком Вакууме

Contact Info

Product

Resources

About