The in situ measurement of the intrinsic stresses in nanofilms

Medição de tensões residuais em filmes finos durante o processo de deposição.

“…Alguns deles se baseiam em métodos ópticos [1][2][3][4], outros em métodos capacitivos [5][6][7][8] e alguns fazem a medição por difração de raios-x [9][10][11].…”

“…Já no método capacitivo, o deslocamento da extremidade do substrato é medido por um sensor capacitivo e, a partir dessa informação, é calculada sua curvatura [5][6][7][8]. Na grande maioria dos casos, o capacitor é formado por uma placa fixa e uma placa móvel, presa à extremidade livre do substrato.…”

“…Gerlach et al [8] propõem um dispositivo com três terminais capacitivos ao longo do substrato. Egorov et al [7] também propõem um dispositivo com capacitor simples, porém com uma alteração no circuito de medição para melhorar a sensibilidade e linearidade.…”

“…Kim et al [3,4] afirmam não ser possível o uso de tal dispositivo pelo fato de que o plasma exerce forte influência sobre a capacitância. Já Egorov et al [7] e Hoffmann et al [47] afirmam ter usado dispositivos capacitivos em seus experimentos. Egorov et al ainda propuseram que o dispositivo de medição deveria estar acondicionado em uma cobertura metálica aterrada [7].…”

“…Já Egorov et al [7] e Hoffmann et al [47] afirmam ter usado dispositivos capacitivos em seus experimentos. Egorov et al ainda propuseram que o dispositivo de medição deveria estar acondicionado em uma cobertura metálica aterrada [7]. Este artifício proporcionaria uma blindagem suficiente para eliminar a interferência do plasma no capacitor.…”