The Spin Density and Optical Properties of Amorphous Thin Arsenic Silicate Films

Abstract

The spin density of amorphous As,O,/SiO thin films is found to be lower than that of SiO films deposited under similar conditions. The measurements show a decrease in the spin density of an amorphous As,O,/SiO film with increasing temperature which can be explained in terms of some annealing of dangling bonds. The fundamental absorption edge of these films a t different temperatures is investigated and analysed assuming optical absorption by indirect transitions. The infrared absorption spectra indicate some chemical bonding between the two oxides. Experimental data on the wavelength dependence of the refractive index are presented. The dispersion of the refractive index follows a single-oscillator model. Some effects of room temperature aging of the films are also presented.La concentration des spins Blectroniques mesurec dans les couches minces de As,O,/SiO est plus basse que dans les couches minces de SiO preparees sous les mdmes conditions. Quand la temperature augmente il y a une decroissance du densite des spins dans une couche mince amorphe de SiO, un resultat qui peut &re explique par consequence de la reparation de la structure des couches minces aprds un traitement B temperature peu Blevee. Les seuils d'absorption des couches minces B quelques temperatures sont mesures et analyses avec la theorie d'absorption optique par les transitions non-directes. Les spectres d'absorption dans la region infra-rouges donnaient l'evidence des jonctions chimiques entre les deux oxydes. Les resultats pour l'indice relative de refraction nf et pour sa variation avec la longueur d'onde, la dispersion de nf en termes d'un moddle monooscillatoire, e t les effets de vieillissement, sont present6es.

The optical properties of Al x O y thin films prepared by reactive evaporation

“…The variation in n()~) shown in Table III is similar to that for other oxides [14][15][16]. It can be seen that n is higher for films prepared at higher oxygen pressures.…”