“…Kết quả cho thấy ở các phức hình thành các phân tử SFX có xu hướng sắp xếp theo chiều ngang, trải rộng lên trên bề mặt r-TiO2 tại các vị trí Ti5f và Ob trong sự hình thành các tương tác bề mặt giữa Ti5f‧‧‧O/N và H‧‧‧Ob. Các khoảng cách tương tác ngoại phân tử này tương ứng trong khoảng 2,24-2,47 Å và 1,76-2,71 Å. Các giá trị này đều nhỏ hơn tổng bán kính van der Waals của hai nguyên tử tham gia tương tác (rvdW(O-H) = 2,72 Å; rvdW(Ti-O) = 3,39 Å; rvdW(Ti-N) = 3,42 Å), và phù hợp với các công bố trước đây về sự hình thành các tương tác giữa Ti5f‧‧‧O và H‧‧‧Ob trong các phức giữa các phân tử hữu cơ, kháng sinh với bề mặt TiO2[11,12,20,21]. Các cấu trúc bền của sự hấp phụ SFX trên bề mặt r-TiO2 (đơn vị khoảng cách Å) Bên cạnh đó, nhiều tương tác kiểu Ti5f‧‧‧O/N và N/C-H‧‧‧Ob xuất hiện ở các cấu trúc SFX-1 và SFX-4, nhiều hơn so với ở các phức SFX-2, SFX-3.…”