В эпитаксиальных структурах SiGe/Si(001) с двумя неэквивалентными SiGe квантовыми ямами, раз-деленными тонким Si-барьером, исследованы спектральные и временные характеристики межзонной фотолюминесценции, соответствующей излучательной рекомбинации экситонов в квантовых ямах. Для серии структур с двумя SiGe-квантовыми ямами различной толщины определены зависимости характерного времени туннелирования носителей заряда (дырок) из узкой квантовой ямы, характеризуемой большей энергией рекомбинации экситона, в широкую квантовую яму от толщины Si-барьера. Показано, что время туннелирования дырок между слоями Si 0.85 Ge 0.15 толщиной 3 и 9 нм монотонно спадает от ∼ 500 нс до < 5 нс при уменьшении толщины Si-барьера от 16 до 8 нм. При промежуточных толщинах Si-барьера обнаружено нарастание сигнала фотолюминесценции широкой квантовой ямы с характерным временем, совпадающим по порядку величины с временем спада люминесценции узкой квантовой ямы, что подтверждает наблюдение эффекта туннелирования дырок из узкой квантовой ямы в широкую. Обнаружена существенная зависимость времени туннелирования дырок от содержания Ge в слоях SiGe при фиксированной толщине Si-барьера между квантовыми ямами, что связывается с увеличением эффективной высоты Si-барьера.
ВведениеОдним из направлений развития кремниевой опто-электроники является использование внутризонных оп-тических переходов для создания квантово-каскадных лазеров [1][2][3][4][5]. Такого рода лазеры, использующие меж-подзонные оптические переходы, созданы на основе соединений A III B V [6], однако каскадный лазер на основе кремний-германиевых гетероструктур пока не реали-зован. В квантово-каскадных гетероструктурах GeSi/Si p-типа наблюдалась лишь электролюминесценция [1,2], а для кремний-германиевых гетероструктур n-типа имеют-ся пока только теоретические предложения [3][4][5]. В ка-честве одного из вариантов создания таких квантово-кас-кадных лазеров было предложено использование селек-тивно-легированных структур с туннельно-связанными квантовыми ямами (КЯ), использующими оптические переходы между состояниями мелких примесных цен-тров и двумерных подзон размерного квантования в КЯ [7]. Базовым элементом такого лазера служит систе-ма из двух неэквивалентных туннельно-связанных КЯ. Одним из эффективных способов изучения процессов туннелирования носителей заряда в такой системе, в частности определение характерных времен туннели-рования, может служить исследование методом спек-троскопии фотолюминесценции (ФЛ) с наносекундным временным разрешением спектральных и временных ха-рактеристик межзонной ФЛ, обусловленной излучатель-ной рекомбинацией носителей заряда, локализованных в КЯ [8]. В качестве первого этапа исследований в данной работе была рассмотрена серия нелегированных гетероструктур SiGe/Si(001) с двумя неэквивалентными SiGe КЯ с различной толщиной Si-барьера между КЯ, а также различным составом твердого раствора SiGe в КЯ.