С использованием базовых положений компьютерной инженерии изучено тепловое и напряженное состояние поверхностного слоя шлифованной Si3N4‒TiC-керамики четырех систем под действием теплового потока. Установлены закономерности распределения температур и напряжений в шести выделенных поверхностях поверхностного слоя. Определена специфика формирования структур ной неоднородности напряжений и микроструктурных концентраторов напряжений, приводящих к изменению структуры керамики за счет образования несплошностей.