2019
DOI: 10.21883/pjtf.2019.03.47265.17575
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Анализ Структуры Многослойных Нанокристаллических Покрытий На Основе Параметров Массопереноса Плазмы, Вычисленных Методом Монте-Карло

Abstract: The results of the simulation of plasma fluxes onto the surface of rotating substrates during the combustion of a vacuum arc of the Cr–Ti–Mo cathode system are presented. The structure and composition of the arc-PVD Ti_0.15Cr_0.74Mo_0.11N_0.84 coatings are experimentally studied. The numerical simulation results of the coating structures based on experimental data were analyzed. The possibility of the simulation of the structure of multilayer, multicomponent coatings and the concentration distribution of chemi… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1

Citation Types

0
0
0

Year Published

2020
2020
2023
2023

Publication Types

Select...
2

Relationship

0
2

Authors

Journals

citations
Cited by 2 publications
(1 citation statement)
references
References 8 publications
0
0
0
Order By: Relevance
“…(1) где E s -модуль Юнга материала подложки, ГПа; v sкоэффициент Пуассона подложки; R и R 0 -радиу сы кривизны подложки до нанесения покрытия и композита подложка-покрытие после его осаждения соответственно, м; t s и t f -толщины подложки и покрытия соответственно, которые были измерены по микрофотографиям поперечных изломов, полученным при помощи растрового электронного микроскопа JSM-6700F. При этом следует иметь в виду, что, поскольку накопление сигнала РФЭС происходит из области глубиной несколько нанометров, концентрационные профили распределения элементов покрытия, полученные в ходе травления поверхности покрытий ионами аргона, будут сглаженными с размытостью границ между отдельными слоями [22]. Это определяет некоторое несоответствие представлений о строении исследуемых покрытий по данным ПЭМс четко выделенными границами слоев, и полученным с помощью РФЭС, результаты которой характеризуются плавно меняющимися концентрационными профилями элементов в слоях.…”
Section: Introductionunclassified
“…(1) где E s -модуль Юнга материала подложки, ГПа; v sкоэффициент Пуассона подложки; R и R 0 -радиу сы кривизны подложки до нанесения покрытия и композита подложка-покрытие после его осаждения соответственно, м; t s и t f -толщины подложки и покрытия соответственно, которые были измерены по микрофотографиям поперечных изломов, полученным при помощи растрового электронного микроскопа JSM-6700F. При этом следует иметь в виду, что, поскольку накопление сигнала РФЭС происходит из области глубиной несколько нанометров, концентрационные профили распределения элементов покрытия, полученные в ходе травления поверхности покрытий ионами аргона, будут сглаженными с размытостью границ между отдельными слоями [22]. Это определяет некоторое несоответствие представлений о строении исследуемых покрытий по данным ПЭМс четко выделенными границами слоев, и полученным с помощью РФЭС, результаты которой характеризуются плавно меняющимися концентрационными профилями элементов в слоях.…”
Section: Introductionunclassified