Влияние Металлических Масок На Согласование Нижнего Электрода С Высокочастотным Генератором Смещения При Реактивно-Ионном Травлении Массивных Подложек

Abstract

The effect of metal masks on the matching of the lower electrode with a high-frequency bias generator during selective reactive-ion etching through the mask of massive substrates in freon-14 has been studied theoretically and experimentally. It is shown that masks with a substrate coating above 30% lead to an increase in the reactive power component at distances from the center close to the substrate radius. The absence of influence on the specific reactive power of the thickness and material of the masks is established. It is experimentally shown that masks with any practically significant coating coefficient of the substrate, connected to the lower electrode through the substrate holder, improve the matching, reducing the power reflection coefficient.

Влияние Асимметрии Расположения Металлических Масок На Согласование Нижнего Электрода С Высокочастотным Генератором Смещения При Реактивно-Ионном Травлении Массивных Подложек

“…Дополнительного прироста значений на краю подложки с изменением соотношения длин сторон маски не наблюдается. В работе [17] нами было выдвинуто предположение, что скачок удельной реактивной мощности на краю маски и его зависимость от расстояния до края подложки связаны с поверхностным характером протекания ВЧ тока через подложку и нижний электрод, вызывающим перераспределение концентрации частиц плазмы в ограниченном пространстве. Эта гипотеза была выдвинута в связи с тем, что на основании численного эксперимента для подложек меньшего размера было выявлено несущественное влияние коронного эффекта как другой возможной причины.…”

“…Необходимость двухстадийного процесса обусловлена тем, что прямой перенос рельефной структуры из-за высокой скорости травления слоя фоторезиста по отношению к скорости травления материала, в котором требуется изготовить микрорельеф, может быть неосуществим. В [17] было показано, что металлические маски с лю-бым практически значимым коэффициентом покрытия подложки улучшают согласование нижнего электрода с ГВЧ, снижая коэффициент отражения по мощности в пределах 15%. Тем не менее в работе не было исследовано влияние асимметрии расположения металлических масок относительно центра подложки на согласование нижнего электрода с ГВЧ.…”