Приведены результаты исследования ВАХ и механизма проводимости в RERAM на базе нестехиометрического нитрида. Сделана попытка объяснить разброс экспериментальных характеристик и сложность моделирования токопереноса в мемристорах кластерной структурой пленки нестехиометрического нитрида. Выдвинуто предположение, что при реальных толщинах функционального слоя в 4–8 нм, разброс параметров RERAM связан с неоднородностью фазового состава этого слоя. Наличие в слое кластеров, соизмеримых с толщиной пленки и имеющих различный химический состав, вносит элемент случайности в результаты измерения ВАХ и не позволяет корректно рассчитать параметры модели.