Квантовые точки InAs, выращенные в метаморфной матрице In-=SUB=-0.25-=/SUB=-Ga-=SUB=-0.75-=/SUB=-As методом МОС-гидридной эпитаксии

Abstract

Методом МОС-гидридной эпитаксии на подложках GaAs выращены квантовые точки InAs в метаморфной матрице InGaAs, излучающие в диапазоне длин волн 1380-1400 нм при комнатной температуре. Структуры выращивались на многослойном метаморфном буфере, состоящем из девяти подслоев InxGa1-xAs, каждый из которых имел толщину 200 нм. В первых семи слоях концентрация индия x последовательно увеличивалась на величину ~3.5%, достигая 24.5%. Затем выращивался компенсирующий слой с концентрацией x=28% и финальный бездислокационный слой с x=24.5%. Показано, что релаксация упругих напряжений с загибом дислокаций на интерфейсах происходит в третьем от поверхности слое, а верхний слой свободен от дислокаций на обоих интерфейсах. Квантовые точки формировались в метаморфной матрице посредством осаждения 2-2.5 монослоев InAs при 520oC с последующим заращиванием тонким слоем InGaAs при той же температуре роста. Установлено, что для улучшения структурного и оптического качества образцов необходимо увеличивать скорость роста и уменьшать концентрацию индия в покрывающем квантовые точки слое InGaAs, по отношению к соответствующим параметрам роста последнего подслоя метаморфного буфера. DOI: 10.21883/FTP.2017.05.44415.8459