“…Эффективность работы фотоэлектрических преобразователей (ФЭП) на основе полупроводниковых гетероструктур A 3 B 5 зависит от многих факторов, к которым, в частности, относятся структурное качество используемых фоточувствительных материалов, параметр кристаллической решетки и ширина запрещенной зоны (ЗЗ). К настоящему времени твердые растворы соединений A 3 B 5 получили широкое распространение в технологии ФЭП и применяются для p−n-переходов, а также в качестве широкозонных оптических окон, потенциальных барьеров и буферов для согласования периодов кристаллических решеток в многослойных гетероструктурах [1][2][3][4]. Физическая природа твердых растворов позволяет создавать изопериодные гетероструктуры [5][6][7], в которых рассогласование периодов кристаллических решеток слоя и подложки a = 0, и варизонные гетероструктуры [8][9][10], в которых ширина запрещенной зоны слоя изменяется по его толщине.…”