Распыление Вольфрама Ионами Бериллия И Неона

Мелузова, Д.С.; Бабенко, П.Ю.; Зиновьев, А.Н.; Шергин, А.П.

doi:10.21883/pjtf.2020.24.50422.18487

Cited by 5 publications

(2 citation statements)

References 17 publications

Supporting

Mentioning

Contrasting

Unclassified

Order By: Relevance

“…Применение кластерных ионов в ионнолучевой литографии и наноструктурировании позволяет увеличить коэффициент распыления. Большое число работ (см., например, [2][3][4][5][6][7][8]) посвящено компьютерному моделированию процессов распыления и расчетам коэффициентов распыления. Вместе с тем публикаций об экспериментальных измерениях коэффициентов распыления кластерными ионами, а тем более данных о сравнительной эффективности распыления атомными и кластерными ионами в одинаковых экспериментальных условиях значительно меньше [9,10].…”

Section: поступило в редакцию 8 ноября 2021 г в окончательной редакции 1 декабря 2021 г принято к публикации 2 декабря 2021 гunclassified

Нелинейные Эффекты При Распылении Арсенида Галлия И Кремния Кластерными Ионами Висмута

Tolstogouzov

Мажаров

Иешкин³

et al. 2022

Письма В Журнал Технической Физики

View full text Add to dashboard Cite

An experimental study on the influence of the energy and the number of atoms in the bombarding ions Bin+ (n = 1-4) on the sputter yield of GaAs was carried out. It was shown that the specific sputter yield Ysp nonadditively increase with an increasing of n and specific kinetic energy Esp per an atom in the bombarding ion, and the efficiency of energy transfer from bombarding ions to target atoms also increases with an increasing of n. A comparison was made with the previously obtained results for Si targets.

show abstract

Нелинейные Эффекты При Распылении Арсенида Галлия И Кремния Кластерными Ионами Висмута

Tolstogouzov

Мажаров

Иешкин³

et al. 2022

Письма В Журнал Технической Физики

View full text Add to dashboard Cite

show abstract

“…Распылению материалов, которые применяются в плазменных установках, посвящены также работы [7][8][9][10][11][12]. Большое внимание уделяется расчетам многочастичных потенциалов взаимодействия, которые нужны при моделировании коэффициентов распыления [13][14][15][16][17][18].…”

Section: Introductionunclassified

Моделирование Распыления Поликристаллического Бериллия Атомами H, D, T

Бабенко¹,

Михайлов²,

Шергин³

et al. 2023

Журнал Технической Физики

View full text Add to dashboard Cite

The results of modeling the sputtering coefficients of polycrystalline beryllium by hydrogen isotopes in the range of collision energies of 8 eV–100 keV and their dependences on the angle of incidence of the beam on the surface are presented. This data is necessary for estimating the sputtering of the first wall in the ITER tokamak made from beryllium. A strong surface shape influence on obtained results is shown. The limiting cases of a flat potential barrier (smooth surface) and a spherical potential barrier (a surface consisting of spikes) are considered. The effect of collision cascades on the sputtering coefficient has been established. The dependences of the average depth of sputtered particle formation on the bombarding particles energy are obtained for various angles of beam incidence on the target. The energy spectra and angular dependences of the ejection of sputtered particles are calculated for different energies of bombarding beam atoms. It is shown that the presence of an attractive well in the potential of an incident particle–surface changes the sputtering coefficient dependence on incidence angle at small glancing angles.

show abstract