Установление типов переходов, ответственных за фиолетовую полосу фотолюминесценции в сильно легированном AlN:Si

Abstract

В настоящей работе представлены результаты экспериментального исследования фотолюминесценции серий сильнолегированных слоев AlN, выращенных методом молекулярнолучевой эпитаксии на сапфировых подложках, концентрация атомов кремния (NSi) составляла 1.11020 см-3 . При измерении ФЛ в диапазоне температур 300-1000 К использовалось возбуждение 4- ой гармоникой импульсного Nd:YLF лазера (λ=263 нм, мощность 1 мВт, длительность импульса 7 нс). При измерении ФЛ в широком диапазоне генерации носителей заряда использовалась возбуждение 4- ой гармоникой стационарного YAG лазера (λ=266 нм), максимальная мощность составляла 65 мВт.