2020
DOI: 10.21883/ftp.2020.03.49029.9309
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Формирование аморфных нанокластеров и нанокристаллов германия в пленках GeSi-=SUB=-x-=/SUB=-O-=SUB=-y-=/SUB=- на кварцевой подложке с использованием печных и импульсных лазерных отжигов

Abstract: Пленки нестехиометрических германосиликатных стекол GeO0.5[SiO2]0.5 и GeO0.5[SiO]0.5 получены соиспарением порошков GeO2 и SiO либо SiO2 и напылением на холодную подложку из плавленого кварца в высоком вакууме. Затем пленки подвергались печным либо импульсным лазерным отжигам (XeCl лазер, λ=308 нм, длительность импульса 15 нс). Свойства образцов были исследованы с применением методов спектроскопии пропускания и отражения, спектроскопии комбинационного рассеяния света и фотолюминесценции. Как показал… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...

Citation Types

0
0
0

Publication Types

Select...

Relationship

0
0

Authors

Journals

citations
Cited by 0 publications
references
References 23 publications
0
0
0
Order By: Relevance

No citations

Set email alert for when this publication receives citations?