Chemical Vapor Deposition merupakan metode deposisi yang digunakan untuk menghasilkan bahan padat berkualitas tinggi dan berkinerja tinggi yang biasanya dibawah vakum. Tujuan review ini adalah untuk mengetahui proses dan teknik dari Chemical Vapor Deposition. Prinsip kerja dari Chemical Vapor Deposition yaitu proses pengendapan senyawa/ unsur terjadi akibat reaksi dekomposisi kimia akibat aktivasi termal di seputar komponean yang dilapisi. Beberapa material yang dihasilkan dengan menggunakan metode Chemical Vapor Deposition ini adalah berlian sintesis, thin film coating, lapisan emas dengan ketebalan yang tipis.