Ao Leandro R. Tessler, pela paciência e sua dedicação como orientador demonstrados durante este trabalho. Seu valioso ensinamento será parte fundamental de minha formação.Ao Ângelo Gobbi, pelo valioso trabalho de fotolitografia realizado no CPqD.Ao Daniel Ugarte e Paulo da Silva, pela ajuda com os microscópios eletrônicos.Ao Antônio Godoy e ao professor Newton Frateschi, pela ajuda com a fotogravação e clivagem dos substratos. Aos professores Fernando Alvarez, Richard Landers e Francisco Marques pelo incentivo e exemplo. Ao professor Carlos Lenz César pelas valiosas dicas. À Izabel pela colaboração com as oxidações dos substratos e ajuda na deposição. O principal agradecimento é para minha família. Minha esposa, mãe e irmãos fizeram possível que eu pudesse avançar nas dificuldades e conseguisse ficar em pé quando tudo parecia não ter solução. Estou seguro que nunca conseguerei devolver-lhes toda sua generosidade e carinho. Ao Luis Alberto Blacutt pela ajuda e amizade desde o começo dos meus estudos. Também agradeço às demais pessoas que estiveram comigo durante estes anos pelos conselhos e pela amizade demonstrada:

Ao Prof. Leandro Tessler, pela completa formação recebida nestes anos e pela grande ajuda emprestada para que fosse possível este doutorado. Ao Prof. Horst Strunk pela possibilidade de trabalhar no seu laboratório em Erlangen e a Dr a . Saule Aldabergenova pela sua amizade e imensa ajuda nas medidas na Alemanha. Ao Prof. Daniel Ugarte e ao Dr. Jefferson Bettini pela ajuda com as medidas de HRTEM. À Prof a . Maria José Brasil e ao Dr. Marcelo Nakaema pela colaboração com as medidas de PLE. Ao Prof. Ricardo Zanatta e à Dr a . Cristina Ribeiro pela ajuda com as medidas de Raman. Ao Prof. Francisco Marques e à Maria Izabel pela ajuda nas deposições das amostras e na resolução dos intermináveis problemas do sistema de sputtering.