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Phssenbildnng in Ni/Si-SchichtenNi-bedampfte amorphe Si-Schichten werden wiihrend des Temperna im Elektronendkroskop untersucht. Es wird gezeigt, da9 im Verlauf dea Diffueionsprozesses in Abhiingigkeit vom Ni-Anteil rn der Schicht acht Phaeen gebildet werden. Generell entstehen zuniichst metsllarme Verbindungen. Am den Ergebnissen wurde geschlossen, daB die Phasenumwandlungen kinetisch und nicht thermodynamisch bedingt sind.Thin films of Ni evaporated onto amorphous Si layers are studied in the electron microscope during annealing, It is shown that in the diffusion process eight phases are formed depending on the Ni content of the layer. Metalpoor compounds are formed first. From the results it was concluded that the phese transformetion is determined by the kinetics of the transformetion mechanism and not by the thermodynamic stability.

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