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Correlations are demonstrated between the production of N, H and NH active species in an Ar-N2-H2 microwave flowing post-discharge and the thickness of epsilon and gamma ' layers on a pure iron substrate. The Fe2-3N, epsilon -layer thickness increases with N atom density when oxide layers are simultaneously removed by H atoms. A maximum has been found in the post-discharge reactivity when the H2/N2 density ratio is in the 10-3-10-2 range.

R&sum&-La post-luminescence des d6charges HF (13.6, 49.5 et 2450MHz) dans les mglanges Ar-N, a 100 Torr a &t& 6tudiee par spectroscopie d16mission. Les processus de recombinaison N + N + M2 et N + C + M,(M2 = Ar-N,) ont Et6 caract6risgs. La densit& des atomes de carbone dans la post-dgcharge a &t6 dgduite de la mesure des atomes dlazote par titration avec NO. Des rapports de densit6s C/M2 aussi bas que lo-'-10'~ ont &tC trouvgs dans des post-dgcharges ii 100-200 Torr, avec des pourcentages &leves (33-100%) de N2 dans Ar.