O mecanismo geral para a fotodegradação do polietilenoglicol (PEG) usando o sistema H 2 O 2 /UV foi determinado por GPC e HPLC, analisando o comportamento de moléculas modelo, como por exemplo os etilenoglicóis de baixa massa molar (tetra-, tri-, di-, e etilenoglicol). Após 30 min de irradiação, a massa molar ponderal média (M w ) do PEG degradado, analisada por GPC, cai para metade do seu valor inicial com um aumento concomitante na polidispersidade e número médio de quebra de cadeia (S). Essa queda acentuada caracteriza uma quebra de cadeia aleatória, formando oligômeros e etilenoglicóis de menor massa molar. A análise da fotodegradação de etilenoglicóis modelo por HPLC permitiu sugerir um mecanismo que envolve processos consecutivos, em que etilenoglicóis maiores originam menores, sucessivamente. A fotodegradação do etilenoglicol formou ácidos carboxílicos de baixa massa molar, como por exemplo os ácidos glicólico, oxálico e fórmico.The general mechanism for the photodegradation of polyethyleneglycol (PEG) by H 2 O 2 /UV was determined studying the photooxidation of small model molecules, like low molecular weight ethyleneglycols (tetra-, tri-, di-, and ethyleneglycol). After 30 min of irradiation the average molar mass (M w ) of the degradated PEG, analysed by GPC, fall to half of its initial value, with a concomitant increase in polydispersitivity and number of average chain scission (S), characterizing a random chain scission process yielding oligomers and smaller size ethyleneglycols. HPLC analysis of the photodegradation of the model ethyleneglycols proved that the oxidation mechanism involved consecutive reactions, where the larger ethyleneglycols gave rise, successively, to smaller ones. The photodegradation of ethyleneglycol lead to the formation of low molecular weight carboxylic acids, like glycolic, oxalic and formic acids.

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Polietilenoglicol (PEG) foi fotooxidado usando o sistema foto-Fenton e comparando com a reação no escuro. Os produtos foram analisados por GPC e HPLC. As amostras tratadas na ausência de luz necessitaram 490 min para que a -M w decrescesse em 50%, enquanto que sob irradiação UV essa mesma proporção foi obtida em 10 min. O decaimento exponencial de -M w com um concomitante aumento na polidispersividade e o número de quebras de cadeia caracteriza um mecanismo de quebra de cadeia aleatório. Os produtos da degradação de PEG em ambos os casos mostram a presença de produtos de massa molecular menor, incluindo etilenoglicóis menores e o ácido fórmico. O mecanismo da fotodegradação corresponde a processos consecutivos, onde etilenoglicóis de maior massa molar geram outros de menor massa, envolvendo quebras sucessivas das cadeias do polímero. O estudo demonstra que o processo de foto-Fenton com irradiação UV é um bom método para a decomposição de PEG.Polyethyleneglycol (PEG) was photooxidized in a photo-Fenton system and results compared with the dark reaction. The products were analysed using GPC and HPLC. In the absence of light, PEG samples needed 490 min to reduce their -M w by 50%, whereas under UV irradiation, only 10 min were necessary. The exponential decay of -M w with a concomitant increase in polydispersity and number of average chain scission, characterized a random chain scission mechanism. The degradation products of PEG in both systems showed the presence of lower molecular weight products, including smaller ethyleneglycols and formic acid. The mechanism involves consecutive processes, were the larger ethyleneglycols give rise, successively, to smaller ones. This suggests that the mechanism involves successive scissions of the polymer chain. Irradiated samples decomposed faster than those kept in the dark This study proves that the foto-Fenton method associated with UV-light is a good reactant for PEG photodegradation.