The broad range of possibilities for optimizing the design and electrical parameters of crystals of Schottky diodes, manufactured according to the mesa–substrate and mesa–mesa planar technologies with anode terminals in the form of an air bridge with a whisker, along with the use of higher quality compact models, make it possible to efficiently exploit the physical potential of Schottky contacts when designing monolithic integrated circuits according to diode technologies, increase their reliability, and overcome the significant lag of semiconductor electronics behind optoelectronics in the terahertz (THz) frequency range.
Определены основные морфологические параметры 50-омных Au/i-GaAs\100\ тонкопленочных микрополосковых золотых СВЧ копланарных линий передач длиной lW, влияющие на активное сопротивление их скин-слоя R и индуктивность L. Получено, что латеральный характер распределения зерен и развитый рельеф их поверхностей приводит к возникновению дополнительных процессов рассеяния электронов как на границах зерен, так и на неоднородностях рельефа. Малый размер зерен, dx<133 нм, на частотах f>10 ГГц переводит аномальный скин-эффект в нормальный. При этом нелинейная зависимость R от lW в локальном приближении обеспечивается фрактальной геометрией рельефа поверхности и приповерхностной области копланарных линий передач, а нелинейная зависимость индуктивности L от lW --- не только фрактальными особенностями рельефа двухмерной поверхности копланарных линий передач, но и фрактальными особенностями трехмерного распределения ее зерен. Ключевые слова: СВЧ линии, скин-эффект, морфология поверхности, фракталы, размерность Хаусдорфа--Безиковича, S-параметры рассеяния, компактная модель, экстракция параметров.
scite is a Brooklyn-based organization that helps researchers better discover and understand research articles through Smart Citations–citations that display the context of the citation and describe whether the article provides supporting or contrasting evidence. scite is used by students and researchers from around the world and is funded in part by the National Science Foundation and the National Institute on Drug Abuse of the National Institutes of Health.
customersupport@researchsolutions.com
10624 S. Eastern Ave., Ste. A-614
Henderson, NV 89052, USA
This site is protected by reCAPTCHA and the Google Privacy Policy and Terms of Service apply.
Copyright © 2025 scite LLC. All rights reserved.
Made with 💙 for researchers
Part of the Research Solutions Family.