No abstract

Предложен новый алгоритм определения значений экстремумов измеряемой в процессе напыления многослойного покрытия зависимости значения коэффициента отражения от оптической толщины напыляемого слоя. Алгоритм использует физическую модель процесса напыления, что позволяет использовать все данные измерений, накопленные регистрирующим прибором во время напыления слоя, в отличие от классических подходов, которые хорошо описывают зависимость коэффициента отражения только вблизи ее экстремума. Эффективность предложенного подхода продемонстрирована на примере моделирования процесса напыления 20слойного четвертьволнового зеркала. A new algorithm for determining the extrema in the dependence of the reflection coefficient on the optical thickness of the deposited layer is proposed. This reflection coefficient is measured during the deposition process of a multilayer coating. The proposed algorithm uses a physical model of the deposition process, which makes it possible to use all the measurement data accumulated by a recording device during the deposition of the layer in contrast to the classical approaches that adequately describe the dependence of the reflection coefficient only near its extremum. The efficiency of the proposed approach is shown by an example of modeling the deposition process for a 20-layer quarter-wave mirror.

Предложены оценки, которые могут использоваться для предсказания степени ожидаемого эффекта корреляции ошибок в определении толщин слоев при изготовлении оптических покрытий с использованием широкополосного оптического контроля процесса напыления. Численное определение этих оценок требует проведения статистического анализа, для чего реализован эффективный вычислительный алгоритм моделирования ошибок толщин слоев, который обеспечивает, с одной стороны, случайный характер ошибок, но в то же время адекватно отражает корреляцию ошибок восстановления толщин, вносимую применяемым способом контроля напыления слоев. Показано, что ожидаемая степень проявления корреляции ошибок оценивается случайной величиной, распределение которой близко к логнормальному распределению, а в качестве параметров, характеризующих исследуемый эффект, могут быть взяты два основных параметра этого распределения. We propose a robust estimate that can be used for the prediction of the expected strength of thickness errors correlation in the case of optical coating production with the direct broad band monitoring of a deposition process. A practical application of this estimate requires statistical analysis. We introduce a computationally efficient simulator of thickness errors that have a random character and are able to adequately represent the correlation of thickness errors by a monitoring procedure. It is shown that the expected strength of thickness errors correlation is estimated by the random value whose distribution is close to the log-normal distribution and that the two main parameters of the log-normal probability density function can be used as the parameters characterizing the investigated effect.

No abstract