С помощью скоростной видеосъемки исследована динамика импульсного газового разряда низкого давления (аргон 0.053−0.133 Pa) в планарном магнетроне, встроенном во взрывоэмиссионный катод сильноточной электронной пушки. Установлено, что вначале разряд зажигается у боковой поверхности катода и лишь затем переходит на его торцевую поверхность. Исследована зависимость стабильности момента зажигания разряда на торцевой поверхности катода от давления рабочего газа и конструкции катода. Установлено, что наложение импульсного продольного магнитного поля приводит к переключению разряда в аксиальном направлении на коллектор электронной пушки. Представлено качественное объяснение наблюдаемого поведения разряда. DOI: 10.21883/JTF.2017.11.45123.2217 Введение Источники нерелятивистских (10−30 keV) сильноточ-ных (10−25 kA) импульсных (2−4 µs) электронных пуч-ков (НСЭП) со взрывоэмиссионным катодом и плазмен-ным анодом на основе сильноточного отражательного (пеннинговского) разряда (ОР) представляют большой интерес для поверхностной обработки материалов и уже нашли достаточно широкое применение [1][2][3][4]. В то же время ряд вопросов их формирования и транспортиров-ки изучен пока недостаточно, несмотря на то что иссле-дованию физики и техники сильноточных электронных пучков посвящено огромное количество оригинальных работ и целый ряд монографий [5][6][7]. К числу мало-изученных вопросов физики и техники НСЭП следует отнести проблему однородности распределения плотно-сти тока (энергии) пучка по его поперечному сечению, которая является одной из ключевых с точки зрения поверхностной обработки материалов [3,[8][9][10][11], особен-но при решении задач, связанных с формированием поверхностных сплавов из предварительно нанесенных покрытий [12].Суть проблемы однородности сильноточных элек-тронных пучков заключается в следующем. Плотности тока электронов и ионов в двойном слое, в котором формируется электронный пучок, связаны между собой соотношением Ленгмюра: j e = j i (M/m) 1/2 , где M и m -массы иона и электрона соответственно. На первый взгляд для обеспечения однородности плотности тока НСЭП, j e (r), необходима соответствующая однород-ность распределения плотности ионного тока, j i (r), по сечению плазменного анода. Однако исследования и опыт эксплуатации сильноточных электронных пушек показали, что при однородном распределении j i (r) рас-пределение плотности энергии пучка на мишени тем не менее имеет ярко выраженный максимум в центральной части [8,10]. Одной из причин такой трансформации электронного пучка в процессе транспортировки в плаз-менном канале является накопление ионов плазмы в приосевой области пучка под действием его собствен-ного радиального электрического поля, появляющегося на стадии нарастания тока вследствие запаздывания зарядовой нейтрализации [6]. Дополнительный вклад в увеличение плотности энергии в центральной области пучка обусловлен действием его собственного магнит-ного поля, которое сравнимо по величине с ведущим магнитным полем (0.15−0.25 T).Для компенсации этого негативного эффекта " фоку-сировки" НСЭП ...