The possibility of lateral Ga (In) AsP nanostructures grown by a catalytic method in a quasi-closed volume from phosphorus and indium vapors on the GaAs (100) surface as an antireflection coating for photovoltaic devices is considered for the first time. It is shown that at fixed growth temperature, it is possible to control the surface morphology by changing the growth time. The surface morphology was investigated by scanning electron and atomic force microscopy. The dependence of surface reflection coefficient in the range of 400-800 nm on the surface structure is shown. The use of such coating in GaAs-based photocells demonstrated a significant increase in the external quantum yield of photoconverters.

Представлены результаты исследований поверхности GaAs в присутствии сурфактантов индия и фосфора. Показано, что в результате их диффузии (отжига) при температуре 650−670• C в приповерхностной области GaAs образуются кластеры, обогащенные индием. Кластеры проявляются в виде светлых пятен в изображении, полученном с помощью внутрилинзового детектора на сканирующем электронном микроскопе. В то же время исследования морфологии этой поверхности с помощью атомно-силового микроскопа обнаружили уменьшение значения среднеквадратичной шероховатости поверхности после процесса отжига (диффузии), что указывает на внедрение атомов индия в кристаллическую решетку GaAs. Кластеры ответ-ственны за изменения в спектрах рамановского рассеяния: наблюдаются увеличение интенсивности сигнала, вызванное эффектом поверхностно-усиленного (гигантского) рамановского рассеяния, и сдвиг частоты колебаний в приповерхностной области. Обнаружено, что эффект формирования кластеров обусловлен как кристаллографической ориентацией поверхности, так и технологическими условиями ее подготовки.