A review on fundamentals and applications of electrophoretic deposition (EPD)

Besra, Laxmidhar; Liu, Meilin

doi:10.1016/j.pmatsci.2006.07.001

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“…[36] It is difficult to obtain uniform deposition from a sedimenting suspension of large particles. [37] Therefore, continuous stirring of suspensions containing large particles is required during the coating deposition. To deposit coatings with different open porosity, two types of relatively large SGG particles with equivalent circle diameters of (ECD)-SGG1 < 45 lm and SGG2 < 85 lm-were used for the EPD of coatings in the present study.…”

Section: A Electrophoretic Codeposition Of Sgg and Peekmentioning

confidence: 99%

Electrophoretic Deposition, Microstructure, and Corrosion Resistance of Porous Sol–Gel Glass/Polyetheretherketone Coatings on the Ti-13Nb-13Zr Alloy

Moskalewicz

Zych

Łukaszczyk

et al. 2017

Metall Mater Trans A

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In this study, microporous composite sol-gel glass/polyetheretherketone (SGG/PEEK) coatings were produced on the Ti-13Nb-13Zr titanium alloy by electrophoretic deposition. Coatings with different levels of high open porosity were developed by introducing SGG particles of varying diameters into the PEEK matrix. The microstructure of the coatings was characterized by electron microscopy and X-ray diffractometry. The coatings with 40-50 lm thickness were composed of semicrystalline SGG particles consisting of hydroxyapatite, CaSiO 3 , some Ca 2 SiO 4 , and an amorphous phase containing Ca, Si, P, and O, homogeneously embedded in a semicrystalline PEEK matrix. The size of SGG particles present in the coatings strongly influenced the formation of microcracks and their adhesion to the underlying substrate. Microscratch tests showed that the coating containing SGG particles with a diameter smaller than 45 lm and open porosity of 45 pct exhibited good adhesion to the titanium alloy substrate, much better than the coating containing particles with a diameter smaller than 85 lm and total open porosity equal to 48 pct. The corrosion resistance was investigated in Ringer's solution at a temperature of 310 K (37°C) for a pH equal to 7.4 and in deaerated solutions with the use of open-circuit potential, potentiodynamic polarization, and electrochemical impedance spectroscopy. The SGG/PEEK-coated alloy indicated better electrochemical corrosion resistance compared with the uncoated alloy.

show abstract

Section: A Electrophoretic Codeposition Of Sgg and Peekmentioning

confidence: 99%

Electrophoretic Deposition, Microstructure, and Corrosion Resistance of Porous Sol–Gel Glass/Polyetheretherketone Coatings on the Ti-13Nb-13Zr Alloy

Moskalewicz

Zych

Łukaszczyk

et al. 2017

Metall Mater Trans A

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show abstract

“…Alcohols, due to their lower dielectric constants, require higher voltages to achieve the same deposition rates at their aqueous counterparts [28].…”

Section: Liquid Mediamentioning

confidence: 99%

“…The material from which the electrode material is to be chosen should have a high conductivity and should not react during the EPD process [28]. Typical electrodes used are nickel, graphite, platinum and stainless steel.…”

Section: Electrodesmentioning

confidence: 99%

The aqueous electrophoretic deposition (EPD) of diamond–diamond laminates

Dzepina

Sigalas

Herrmann

et al. 2013

International Journal of Refractory Metals and Hard Materials

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Section: Introductionunclassified

“…18 Una característica importante de la EPD, es que presenta diferentes variables de operación, permitiendo alterar la actividad de la película formada, tan sólo manipulando una de ellas. 8,11 Lo que ha motivado a diferentes investigadores a buscar condiciones, durante la preparación de las películas, que lleven a obtener electrodos semiconductores con alto desempeño fotoelectroquímico.Diferentes autores han estudiado el efecto del tiempo de deposición, sobre el desempeño fotoelectroquímico de películas de TiO 2 . 8,19,20 Estas investigaciones han mostrado que al aumentar el tiempo de deposición, se afecta el desempeño fotoelectroquímico de la película.…”

unclassified

Generación de estados superficiales durante la formación electroforética catódica de películas de TiO2 sobre ito

Acevedo–Peña¹,

González²,

Vázquez³

et al. 2011

Quím. Nova

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Recebido em 29/3/10; aceito em 29/9/10; publicado na web em 26/1/11 SURFACE STATES GENERATION DURING CATHODIC ELECTROPHORETIC DEPOSITION OF TiO 2 /ITO FILMS. In the present work TiO 2 films were formed over Indium Tin Oxide (ITO) employing cathodic electrophoretic deposition (Cathodic-EPD) and Dr. Blade Technique. The films were characterized by electrochemical techniques in order to compare their electronic properties; as well as, their photoelectrochemical behavior. The electrochemical performance showed by the films, allowed to relate the modification occurring during the Cathodic-EPD, with the partial reduction of TiO 2 nanoparticles, generating Ti 3+ defects. These trapping states are modifying the electronic properties of the film, and diminishing the transport of the photoelectrogenerated electrons toward ITO.Keywords: cathodic electrophoretic deposition; surface states; TiO 2 . INTRODUCCIÓNA pesar de los esfuerzos realizados por diferentes investigadores en el campo de materiales, el TiO 2 continúa siendo el material empleado con mayor frecuencia en las celdas fotoelectroquímicas (celdas solares, producción de hidrógeno, degradación de contaminantes, entre otras), gracias a sus propiedades únicas como: alta estabilidad, alta actividad como fotocatalizador, y su relativo bajo costo. 1 Para la aplicación del TiO 2 en este tipo de celdas, es necesario que el material se encuentre soportado en un sustrato conductor, que permita la colección de los electrones fotogenerados en el sistema. Para ello, existen diferentes técnicas que son comúnmente empleadas en la formación de depósitos de óxidos semiconductores, sobre sustratos conductores, dip coating, 2 spin coating, 3 slip coating, 4 magnetron sputtering, 5 deposición electroforética, 6 el método del Dr. Blade, 7 entre otras. Entre todas estas técnicas, la deposición electroforética (EPD) sobresale, gracias a su relativo bajo costo, reproducibilidad, y a que se han obtenido películas semiconductoras con muy buena actividad fotoelectroquímica. 8 Además, la deposición electroforética es una alternativa para la fabricación de películas semiconductoras a partir de materiales nanoparticulados comerciales, como el Degussa P-25; y por medio del control de los parámetros de proceso, es posible obtener películas con una gran variedad de espesores y morfologías, brindándole una versatilidad atractiva para un gran número de aplicaciones. 912 La técnica de EPD también ha mostrado ser viable para la preparación de películas de distintos materiales semiconductores, por ejemplo; GilSun Kim et al. emplearon la EPD en la fabricación de celdas solares con nanotubos de TiO 2 , con un aprovechamiento de energía solar de hasta 6.72%, superior a la obtenida por el método del Doctor Blade, la cual sólo alcanzó una eficiencia de 0.65%. 13 La EPD también ha sido útil para la preparación de películas de materiales compuestos, como TiO 2 /PTh, 14 TiO 2 /C, 15 y nanotubos de TiO 2 modificados con WO 3 . 16 Asimismo, se ha empleado para caracterizar las propiedades fotoelectroquímicas ...

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A review on fundamentals and applications of electrophoretic deposition (EPD)

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Electrophoretic Deposition, Microstructure, and Corrosion Resistance of Porous Sol–Gel Glass/Polyetheretherketone Coatings on the Ti-13Nb-13Zr Alloy

Electrophoretic Deposition, Microstructure, and Corrosion Resistance of Porous Sol–Gel Glass/Polyetheretherketone Coatings on the Ti-13Nb-13Zr Alloy

The aqueous electrophoretic deposition (EPD) of diamond–diamond laminates

Generación de estados superficiales durante la formación electroforética catódica de películas de TiO2 sobre ito

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