1995
DOI: 10.1021/ac00111a016
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Chemical Vapor Deposition Fabrication and Characterization of Silica-Coated Carbon Fiber Ultramicroelectrodes

Abstract: Carbon fiber disk ultramicroelectrodes (UMEs) with well-defined geometries were prepared by chemical vapor deposition techniques. Transparent silica films with thicknesses from 1 to 600 microns were deposited on the cylindrical length of 5 and 10 microns carbon fibers from a SiCl4, H2, and O2 ternary precursor system at 850-1150 degrees C or sequential deposition from Si(OEt)4 as a single source precursor at 700 degrees C followed by the SiCl4, H2, and O2 precursor system. Film thickness, film adhesion to the … Show more

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“…Based on a reasoning that is often used in the SECM literature, that is to say that the positive feedback small L limit can be seen as a thin layer cell (TLC) situation, the following expressions can be written for any R g [Eqs. (15) and (16)]:…”
Section: Analytical Limiting Behaviors For Positive Feedbackmentioning
confidence: 99%
“…Based on a reasoning that is often used in the SECM literature, that is to say that the positive feedback small L limit can be seen as a thin layer cell (TLC) situation, the following expressions can be written for any R g [Eqs. (15) and (16)]:…”
Section: Analytical Limiting Behaviors For Positive Feedbackmentioning
confidence: 99%
“…Microeletrodos de disco podem também ser fabricados pela técnica de deposição química em fase vapor, [35][36][37][38][39][40][41] processo no qual a microfibra é isolada com uma fina camada de sílica. A formação do filme ocorre pela deposição da sílica a partir dos seus precursores gasosos (SiCl 4 , H 2 e O 2 ) ou pela deposição seqüencial de Si(OEt) 4 e dos precursores gasosos.…”
Section: Microeletrodos De Disco Fabricados a Partir Da Deposição Quíunclassified
“…Microeletrodos de disco da ordem de 5 a 10 µm podem ser obtidos por esse método. [35][36][37] Esse procedimento de fabricação apresenta uma série de vantagens: eletrodos de diferentes materiais e tamanhos podem ser fabricados e modificados alterando-se os precursores e os parâmetros experimentais; o filme isolante é fabricado sobre a própria superfície da microfibra propiciando excelente adesão e selagem; a deposição química em fase vapor pode possibilitar um filme mais uniforme quando comparado com outras técnicas de deposição. Um exemplo da flexibilidade desse método é a fabricação de microeletrodos constituídos por nanotubos de carbono fabricados a partir da deposição química em fase vapor utilizando uma atmosfera de acetileno.…”
Section: Microeletrodos De Disco Fabricados a Partir Da Deposição Quíunclassified
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“…A new technology by which ME are covered with a quartz film solves this problem to some extent. The film is deposited from the vapor phase including silicon carbide, hydrogen, and oxygen [201]. The components mutually interact to form quartz gradually precipitating on carbon fibers.…”
Section: Carbon Microelectrodesmentioning
confidence: 99%