2018
DOI: 10.18185/erzifbed.376279
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Cu/n-InP/In Schottky Diyotların Sıcaklığa Bağlı Akım-Voltaj ve Kapasite-Voltaj Ölçümlerinden Elde Edilen Karakteristik Parametrelerinin İncelenmesi

Abstract: Öz Schottky engel diyotları n-tipi InP (100) yarıiletkeni kullanılarak elde edildi. Ohmik kontaklar In metali buharlaştırıldıktan sonra 320 o C'de ve N2 ortamında tavlanarak yapıldı. Schottky kontakları 0,5 mm çapında ve yarıiletkenin ön yüzünde imal edildi. I-V karakteristikleri 20K ve 300K sıcaklık aralığında sıcaklığın bir fonksiyonu olarak ölçüldü. Deneysel I-V karakteristiklerinin Cu/n-tipi Inp Schottky diyotları için geleneksel Termiyonik Emisyon (TE) teorisi ile uyum içerisinde olduğu gözlemlendi. Cu/n-… Show more

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
1

Citation Types

0
1
0

Year Published

2020
2020
2022
2022

Publication Types

Select...
2

Relationship

0
2

Authors

Journals

citations
Cited by 2 publications
(1 citation statement)
references
References 44 publications
0
1
0
Order By: Relevance
“…The n and Φ b0 were calculated by equations (3)-(4) and shown in table 1. The n and Φ b0 range from 1.07-0.77 eV for 300 K and 6.85-0.20 eV for 60 K, respectively The variation of ideality factor, especially n>1, attributed to the existence of interface states and the spatial barrier inhomogeneties at the metal-semiconductor (MS) interface [27]. In addition, in figure 5.…”
Section: Resultsmentioning
confidence: 99%
“…The n and Φ b0 were calculated by equations (3)-(4) and shown in table 1. The n and Φ b0 range from 1.07-0.77 eV for 300 K and 6.85-0.20 eV for 60 K, respectively The variation of ideality factor, especially n>1, attributed to the existence of interface states and the spatial barrier inhomogeneties at the metal-semiconductor (MS) interface [27]. In addition, in figure 5.…”
Section: Resultsmentioning
confidence: 99%