Desenvolvimento da técnica de deposição de filmes finos por gaiola catódica

Abstract

ResumoO presente trabalho tem por objetivo desenvolver a técnica de Deposição por plasma em descarga de gaiola catódica. Deposições de camadas de nitretos de ferro e de titânio foram realizadas sobre substrato de vidro em gaiola catódica, a partir de condições variadas de temperatura, tempo de deposição e razão da mistura N 2 -H 2 . Foram feitas análises de difratogramas de raios-X e ensaios de corrosão. As propriedades eletroquímicas dos filmes foram analisadas por de Espectroscopia de Impedância Eletroquímica (EIE) e curva de polarização, ambos em solução de NaCl 3,5% em peso. Com base nos espectros (EIE) foi possível observar que os filmes depositados possuem uma boa resistência à corrosão. Palavras-chave:Deposição por plasma; Gaiola catódica; Filmes finos. Abstract This work has as main goal to develop the technique of deposition for plasma in discharge of