RESUMO A utilização de gaiola catódica se apresenta com um grande potencial de deposição de filmes finos e espessos, seja em substrato de vidro ou em peças metálicas. São inúmeras as possibilidades dessa técnica. Neste trabalho, a descarga de plasma em gaiola catódica foi usada para deposição de filmes de nitreto de titânio em substrato de vidro. O objetivo foi o de comparar as propriedades dos filmes depositados com uso de duas gaiolas com tampas de espessuras diferentes. Para caracterização dos filmes foram feitas análises por difração de raios X, medidas de espessura por reflectometria, medidas de resistividade elétrica, transmitância e imagens das superfícies por microscopia eletrônica de varredura e análise da composição por EDS. A reflectometria mostrou que a taxa de deposição e a rugosidade dos filmes aumentaram com a utilização de tampa de maior espessura (10 mm). O filme depositado na atmosfera de 155 sccm de N2 , 95 sccm de H2 e pressão de 0,5 Torr apresentou baixa transmitância na região do vermelho e infravermelho próximo, tornando-o um candidato para ser utilizado como filtro de infravermelho.

Titanium nitride films were deposited on silicon by plasma discharge in cathodic cage with holes and without holes on the sides. Each film was deposited with a pressure of 253 Pa, treatment time of 2 h, and at diverse conditions of temperature and gas flow of N 2 and H 2 . The electrochemical polarization and electrochemical impedance techniques were used to understand the effect on the electrochemical properties of these films in relation to the presence or absence of holes on the sides of the cathodic cage and to investigate the electrochemical behavior of the films formed, which presented as both capacitive and resistive for the conditionsanalyzed.

ResumoO presente trabalho tem por objetivo desenvolver a técnica de Deposição por plasma em descarga de gaiola catódica. Deposições de camadas de nitretos de ferro e de titânio foram realizadas sobre substrato de vidro em gaiola catódica, a partir de condições variadas de temperatura, tempo de deposição e razão da mistura N 2 -H 2 . Foram feitas análises de difratogramas de raios-X e ensaios de corrosão. As propriedades eletroquímicas dos filmes foram analisadas por de Espectroscopia de Impedância Eletroquímica (EIE) e curva de polarização, ambos em solução de NaCl 3,5% em peso. Com base nos espectros (EIE) foi possível observar que os filmes depositados possuem uma boa resistência à corrosão. Palavras-chave:Deposição por plasma; Gaiola catódica; Filmes finos. Abstract This work has as main goal to develop the technique of deposition for plasma in discharge of