Effect of Ar ion-plasma treatment on residual stress in thin Cr films

Babushkin, A. S.; Selyukov, R. V.; Amirov, I. I.

doi:10.1117/12.2521617

Cited by 4 publications

(1 citation statement)

References 26 publications

Supporting

Mentioning

Contrasting

Unclassified

Order By: Relevance

“…Основываясь на этом факте, можно предложить следующее качественное объяснение переориентации зерен в результате ИПО. В [5,11] было показано, что ИПО приводит к увеличению сжимающих напряжений в пленках Cr, что было объяснено диффузией атомов с поверхности в межзеренные границы в рамках модели возникновения сжимающих напряжений в пленках, предложенной в работе [12]. Ионно-индуцированные сжимающие напряжения в пленках Ti могут быть движущей силой, меняющей текстуру пленки.…”

unclassified

Формирование текстуры (100) в тонких пленках Ti под действием низкоэнергетической ионной бомбардировки

Селюков¹,

Изюмов²,

Наумов³

et al. 2021

Письма В Журнал Технической Физики

View full text Add to dashboard Cite

10-40 nm Ti films with mixed crystalline texture (100)+(001) are exposed to ion bombardment in inductively coupled Ar plasma by applying the bias -30 V to the films. It is found that such a treatment leads to the formation of (100) texture in films. This result is explained by the generation of the compressive stress in films as a result of ion bombardment. The thinner the film the less time is required to form the (100) texture.

show abstract

unclassified