Effects of O2 fraction on the properties of Al-doped ZnO thin films treated by high-energy electron beam irradiation

Densification of Al-doped ZnO via preliminary heat treatment under external pressure

“…Though a target is required for PLD and magnetron sputtering, sufficient information is not available regarding the preparation of the target despite the number of reports [11][12][13][14][15][16][17][18][19][20][21][22][23][24][25][26][27]. One recent report [21] was devoted to the preparation of the target itself, and two reports discussed the effect of the sintering variables * Corresponding author.…”

“…: +82 54 820 5783; fax: +82 54 820 6211. such as temperature [27] and atmosphere [14], which provided concrete data and the microstructure of the target. Most of the rest reports [11][12][13][15][16][17][18][19][20][22][23][24][25][26] described the preparation of the target merely with a brief sintering condition and the resultant density.…”

Thermal stability of electrical properties of ZnO:Al films deposited by room temperature magnetron sputtering

“…Along with other advantages like cost effectiveness, nontoxicity and high stability in hydrogen plasma, AZO film has developed to be one of the most promising substitutes for the presently predominant indium tin oxide (ITO) film in various fields, such as solar cells, light emitting diodes, laser diodes and flat display panels, etc. [14,15]. By far, extensive investigations have been focused on the fabrication process and initial qualities of AZO.…”

The Influence of Oxygen Pressure on ZnO:Al Thin Films Properties Grown by Layer by Layer Growth Method at Magnetron Sputtering

“…Раніше досліджувався вплив на властивості легованих алюмінієм плівок ZnO: (і) технологічних параметрів магнетронного осадження ( температура підкладки [15], тиски кисню [16] та аргону [17], потужність магнетрону [18], ( іі) технологічних прийомів осадження (подвійне легування [19], вибір катодної системи [20], створення багатошарових плівок [21,22], підготовки поверхні [23] тощо) та (ііі) термічного відпалу щойно вирощених плівок [24,25]. Для покращення властивостей плівок ZnO, осаджених на різні типи підкладок, нами був запропонований в високочастотному (ВЧ) МР метод пошарового (постадійного) росту [26,27].…”