Electron-stimulated desorption: Principles and applications

Ramsier, R. D.; Yates, John T.

doi:10.1016/0167-5729(91)90013-n

Cited by 442 publications

(174 citation statements)

References 234 publications

Supporting

Mentioning

158

Contrasting

Unclassified

Order By: Relevance

“…In this method, the adsorbed layer is bombarded by electrons (Ve=120 eV in this case) and the .angular distribution of Cl + ions is detected by a digital technique. The ejection angle of the Cl + ions is determined primarily by the orientation of the Si-Cl bond being broken [16][17][18] …”

Section: Vibrational Studies Of C1 2 and Hcl Adsorptionmentioning

confidence: 99%

Comparison of Cl2 and HCl adsorption on Si(100)−(2 × 1)

et al. 1993

Self Cite

View full text Add to dashboard Cite

Section: Vibrational Studies Of C1 2 and Hcl Adsorptionmentioning

confidence: 99%

Comparison of Cl2 and HCl adsorption on Si(100)−(2 × 1)

et al. 1993

Self Cite

View full text Add to dashboard Cite

“…A amostra não exposta se deixa caracterizar principalmente pelos íons CH 3 + , e as séries C m H n + , cujas intensidades diminuem drasticamente após exposição à luz UV (Figuras 2S, material suplementar, e 3). Outro fato importante é a presença das m/q = 31 e 48, atribuídas aos íons CH 3 O + e SO + , respectivamente, e associadas à presença da resina fenólica e do radical sulfonado. O primeiro tem a sua intensidade reduzida quase à metade e o segundo não está presente na amostra exposta.…”

Section: Resultsunclassified

“…Pode-se mostrar por cinemática clássica que o processo responsável pela formação dos íons é a transferência de energia eletrônica, ou seja, a transferência de momento não é suficiente para explicar nem mesmo a presença marcante dos íons H + . 3 Através do impacto de elétrons, pode-se induzir transições eletrônicas em elétrons de valência e camada interna, através de processos de excitação e ionização, tendo-se como resposta do sistema a formação das espécies iônicas e neutras. 3 A dessorção de íons positivos por excitação de camada interna pode ser, em geral, explicada mediante a localização de dois ou mais buracos positivos em orbitais de valência, que são gerados pela sequência do decaimento Auger, e discutida em detalhe através do modelo de KnotekFeibelman (modelo KF).…”

Section: Figura 2 Desintegração Luminosa Do Composto Fotoativo E Reaunclassified

“…3 Através do impacto de elétrons, pode-se induzir transições eletrônicas em elétrons de valência e camada interna, através de processos de excitação e ionização, tendo-se como resposta do sistema a formação das espécies iônicas e neutras. 3 A dessorção de íons positivos por excitação de camada interna pode ser, em geral, explicada mediante a localização de dois ou mais buracos positivos em orbitais de valência, que são gerados pela sequência do decaimento Auger, e discutida em detalhe através do modelo de KnotekFeibelman (modelo KF). 4 O decaimento Auger enfraquece então a ligação química, de tal forma que a fragmentação iônica pode ocorrer.…”

Section: Figura 2 Desintegração Luminosa Do Composto Fotoativo E Reaunclassified

See 1 more Smart Citation

Estudo da decomposição fotoquímica por exposição à luz UV de fotorresinas positivas

Borges¹,

Rocco²,

Pinho³

et al. 2012

Quím. Nova

View full text Add to dashboard Cite

Recebido em 25/3/11; aceito em 5/8/11; publicado na web em 30/9/11 PHOTODECOMPOSITION BY ULTRAVIOLET EXPOSURE OF POSITIVE PHOTORESISTS. Positive photoresists are widely used in lithographic process in microelectronics and in optics for the fabrication of relief components. With the aim of identifying molecular modifications among positive photoresists unexposed and previously exposed to ultraviolet light the electron stimulated ion desorption technique coupled to time-of-flight mass spectrometry was employed in the study of the AZ-1518 photoresist. Mass spectra were obtained as a function of the electron beam energy, showing specific changes related to the photochemical decomposition of the photoresist. This reinforces the applicability of the technique to investigate and characterize structural changes in photosensitive materials.Keywords: AZ-1518 photoresist; photolysis; time-of-flight mass spectrometry. INTRODUÇÃOA necessidade de componentes eletrônicos cada vez menores exige um profundo conhecimento dos processos físicos e químicos de materiais fotossensíveis. A fotorresina AZ-1518 é uma fotorresina positiva, material fotossensível utilizado em muitos processos industriais e em microeletrônica, como fotolitografia e fotogravura, para formar um padrão de revestimento em uma superfície. Durante a exposição à luz UV, a fotorresina sofre uma reação química, modificando suas propriedades químicas e físicas. Dependendo da energia absorvida, podem-se observar mudanças através da medição do índice de refração do material. 1 As fotorresinas positivas reagem de tal maneira que regiões expostas à luz se dissolvem mais rapidamente durante o processo de revelação. Teoricamente, regiões não expostas permanecem inalteradas. As negativas respondem de forma oposta, mas pelo fato das positivas tenderem a ter uma melhor resolução, estas se tornaram mais populares para a fabricação de circuitos integrados. 2 As fotorresinas positivas apresentam usualmente três constituintes principais: um composto fotoativo denominado de diazonaftoquinona (DNQ), que atua também como um inibidor de dissolução, mostrado na Figura 1a, uma base de resina fenólica (novolak), mostrada na Figura 1b, que fornece suporte mecânico para a fotorresina, e um solvente de revestimento (xileno, acetato de n-butila, etc.). Durante a exposição da fotorresina à luz, ocorrem processos químicos, onde o composto fotoativo passa de inibidor a sensibilizador, aumentando a dissolução da fotorresina. A coloração vermelha da fotorresina pode ser atribuída a uma reação entre o novolak e o DNQ, formando um azocomposto. O novolak é um polímero de peso molecular moderado, cujos monômeros são anéis aromáticos contendo grupos metil e OH, que se dissolve de forma rápida em solução aquosa.O nitrogênio da molécula de DNQ está fracamente ligado e, durante a exposição à radiação na faixa do UV, desprende-se do anel aromático, gerando um carbeno, que é altamente reativo. A partir daí, um rearranjo de Wolff ocorre e um ceteno é formado. Em presença de água, um ácido carboxílico é ger...

show abstract

“…During this time, electrode materials should sustain the field without arcing and the dark current should be kept as low as possible. This dark current will ionize the residual gas as well as desorbing neutrals and ions by the known electron stimulated desorption process (ESD) [4,5]. Those ions will be accelerated toward the cathode and the field emitter array (FEA), in other words the electron source, and induce sputtering.…”

Section: Introductionmentioning

confidence: 99%

Field emission dark current of technical metallic electrodes

Pimpec

Ganter

Betemps

2007

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A:

View full text Add to dashboard Cite

In the framework of the Low Emittance Gun (LEG) project, high gradient acceleration of a low emittance electron beam will be necessary. In order to achieve this acceleration, a -500 kV, 250 ns FWHM, pulse will be applied between two electrodes. Those electrodes should sustain the pulsed field without arcing, must not outgas and must not emit electrons. Ion back bombardment, and dark current will be damaging to the electron source as well as for the low emittance beam. Electrodes of commercially available OFE copper, aluminium, stainless steel, titanium and molybdenum were tested, following different procedures including plasma glow discharge cleaning.

show abstract

Electron-stimulated desorption: Principles and applications

Cited by 442 publications

References 234 publications

Comparison of Cl2 and HCl adsorption on Si(100)−(2 × 1)

Comparison of Cl2 and HCl adsorption on Si(100)−(2 × 1)

Estudo da decomposição fotoquímica por exposição à luz UV de fotorresinas positivas

Field emission dark current of technical metallic electrodes

Contact Info

Product

Resources

About