Pulse crystallization is investigated by time-resolved TEM in amorphous Ge and Si films close t o the threshold (resolution 3 ns in specimen areas above 0.4 pm 0 ) . A threefold structure originates with non-monotonic dynamics. The centre grows slowly ( N 0.05 m/s) and polycrystalline. Next comes a ring where the amorphous phase transforms into a large-grain structure of radially elongated crystals, either directly with N 100 m/s, or via a slowly growing (N 0.1 m/s) polycrystalline stage which recrystallizes with N 100 m/s. Finally, large-grain shells with a finegrained intercalate spiral out of the irradiated area with = 20 m/s. Dynamics and structure possibly result from competition of crystal growth and nucleation, modified by expulsion of mpurities. Pulskristallisation von amorphen Ge-und Xi-Schichten wird mit zeitaufgeloster TEM (Auflosung 3 ns in Objektdurchmessern 2 0,4 pm) in Schwellennahe untersucht. Es entsteht zeitlich nichtmonoton eine dreiteilige Struktur. Das Zentrum wachst langsam ( Y 0,05 m/s) und polykristallin. Danach kommt ein Ring, in dem die amorphe Phase sich in eine grobkornige Struktur mit radial lilnglichen Kristallen umwandelt, entweder direkt mit N 100 m/s oder iiber einen langsam entstehenden ( N 0,l m/s) polykristallinen Zustand, der mit Y 100 m/s rekristallisiert. AbschlieBend erstrecken sich spiralig grobkristalline Schalen mit feinkristallinen Zwischenlagen in den unbestrahlten Bereich mit N 20 m/s. Dynamik und Struktur sind vermutlich durch Konkurrenz von Wachstum und Keimbildung, gesteuert durch ausgeschiedene Verunreinigungen, bedingt.