2018
DOI: 10.1007/s13204-018-0825-6
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Fabrication of nanoporous film by transfer of colloidal particles and application to biomacromolecules

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
2
2
1

Citation Types

0
0
0
5

Year Published

2020
2020
2020
2020

Publication Types

Select...
3

Relationship

0
3

Authors

Journals

citations
Cited by 3 publications
(5 citation statements)
references
References 56 publications
0
0
0
5
Order By: Relevance
“…lik UV radyasyonu altında fotopolimerizasyon sağlanırsa, altı kollu yansıma koruma altına alınmaktadır. Bu koruma, tamamen; dispersiyon haldeki kolloidal kristal yapının polimerizasyonla, katı faz hale getirilmesi ile sağlanmakta [15][16][17][18][19][20][21][22]. Kaplama yüzeyinde oluşan filmin parlak yanar-döner renkleri, (Şekil 2), üst ve yandan SEM görüntüleri (Şekil 3A ve 3B) ile kolaylıkla seçilebilmektedir.…”
Section: Tartişma Ve Sonuçunclassified
See 2 more Smart Citations
“…lik UV radyasyonu altında fotopolimerizasyon sağlanırsa, altı kollu yansıma koruma altına alınmaktadır. Bu koruma, tamamen; dispersiyon haldeki kolloidal kristal yapının polimerizasyonla, katı faz hale getirilmesi ile sağlanmakta [15][16][17][18][19][20][21][22]. Kaplama yüzeyinde oluşan filmin parlak yanar-döner renkleri, (Şekil 2), üst ve yandan SEM görüntüleri (Şekil 3A ve 3B) ile kolaylıkla seçilebilmektedir.…”
Section: Tartişma Ve Sonuçunclassified
“…Potansiyel elektronik devre ve optik kaplama uygulamaları için standart [15][16] yarı iletken mikrofabrikasyon teknikleri kullanılarak mikron ölçekli nanodizilimlerin oluşturulabileceği kanıtlanmıştır. Monomer kırılma indisi n: 1.4689 ve silika kolloidleri kırılma indisi n: 1.42 olarak ele alındığında [17][18][19]; kolloidal stabiliteyi ve küreler arasındaki van der Waals etkileşimlerini azaltan etkenin, önceki çalışmalardan çıkan sonuçlara bakıldığında [19][20][21][22][23]; indis eşleşmesine bağlı olduğu söylenebilir. 400 nm den büyük silika kürelerinin hızlı yerçekimi sedimantasyonu, yüksek kaliteli kristallerin yapımında ciddi sorunlara neden olmasından ötürü, önceki çalışmalarda uygulanmış yöntemler örneğin; elektrostatik, şablon kaplamaya [6,7] kıyasla, bu kaplama tekniğinin, bir başka avantaj sağladığıda görülecektir.…”
Section: Tartişma Ve Sonuçunclassified
See 1 more Smart Citation
“…ETPTA polimeri, oksijen plazma dağlama koşullarının (örn., aşındırma gücü ve süresi) (Choi et al, 2004;Jang et al, 2008;Kim et al, 2010;Wu et al, Şekil 3 (90 s lik oksijen plazma aşındırması sonrası); 300 nm silika kürelerden oluşan döner kaplamayla oluşturulan tek katmanlı bir koloidal kristalin 16 cm çapında bir ETPTA -silika kolloidal matriks filminin yüzey fotoğrafı gösterilmiştir. Beyaz ışık dalga boyu altında, bu döner kaplı silika koloidal kristal yüzeyi üzerinde karşılaşılan neredeyse karakteristik altı kollu Bragg kırınım deseniyle aynı olan renkli kırınım ortaya çıkmaktadır (Holtz and Asher, 1997;Imura et al, 2009;Toma et al, 2012;Gozubenli et al, 2018 Şekil 1, 2 ve 4'ten görüleceği üzere gösterilen üst tabakadaki kolloidal partikülleri transfer etmek için hazırlanmış olan kompozit film poliüretan -silika kürelerini içerir. Poliüretan film içerisine gömülü kürelerin etrafında bulunan üçlü delikler oksijen aşındırmasında oluşan küreciklerin altında kalan ETPTA polimerinin arta kalan kök saplarının kalıp boşluklarıdır.…”
Section: Bulgularunclassified
“…Şekil 3 (90 s lik oksijen plazma aşındırması sonrası); 300 nm silika kürelerden oluşan döner kaplamayla oluşturulan tek katmanlı bir koloidal kristalin 16 cm çapında bir ETPTA -silika kolloidal matriks filminin yüzey fotoğrafı gösterilmiştir. Beyaz ışık dalga boyu altında, bu döner kaplı silika koloidal kristal yüzeyi üzerinde karşılaşılan neredeyse karakteristik altı kollu Bragg kırınım deseniyle aynı olan renkli kırınım ortaya çıkmaktadır (Holtz and Asher, 1997;Imura et al, 2009;Toma et al, 2012;Gozubenli et al, 2018). Bu Bragg kırınım deseni; kaplama sırasında 3000 rpm hızı geçildiğinde açığa çıkmakta olup, kaplama tamamladıktan sonra ETPTA içerisindeki koloidal matriksin düşük seviyeli enerji yönelimi nedeniyle, 15 saniye sonra kaybolmaktadır.…”
Section: Bulgularunclassified