2016
DOI: 10.1002/solr.201600005
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Fast Co‐Diffusion Process for Bifacial n‐Type Solar Cells

Abstract: We present a new simplified and fast process sequence for the fabrication of large area bifacial n‐type silicon solar cells. A co‐diffusion process simultaneously forms the boron‐doped emitter and the phosphorus‐doped back surface field in one single high temperature step. We use borosilicate glasses (BSG) deposited by atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD) and a POCl3 gas ambient as doping sources. Tailoring of the diffusion process yields a reduced co‐diffusion process time of 114 min, well s… Show more

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“…A célula PANDA desenvolvida em substrato de silício tipo n obteve eficiências da ordem de 19 % a 20 % (Song et al, 2011). Empresas como a Suniva e diversos centros de pesquisa ao redor do mundo vêm desenvolvendo células solares em substratos de silício tipo n. Recentemente, Meier et al (2017) relataram a obtenção de 20,1 % de eficiência em células solares bifaciais fabricadas em silício tipo n com a aplicação de um processo de co-difusão para a formação do emissor de boro e um campo retrodifusor (BSFback surface field) de fósforo. Dentre os principais aspectos estudados, o maior desafio na fabricação de células solares em substratos dopados com fósforo é a passivação do emissor frontal, formado pela difusão de boro.…”
Section: Introductionunclassified
“…A célula PANDA desenvolvida em substrato de silício tipo n obteve eficiências da ordem de 19 % a 20 % (Song et al, 2011). Empresas como a Suniva e diversos centros de pesquisa ao redor do mundo vêm desenvolvendo células solares em substratos de silício tipo n. Recentemente, Meier et al (2017) relataram a obtenção de 20,1 % de eficiência em células solares bifaciais fabricadas em silício tipo n com a aplicação de um processo de co-difusão para a formação do emissor de boro e um campo retrodifusor (BSFback surface field) de fósforo. Dentre os principais aspectos estudados, o maior desafio na fabricação de células solares em substratos dopados com fósforo é a passivação do emissor frontal, formado pela difusão de boro.…”
Section: Introductionunclassified
“…Nowadays n ‐type monocrystalline silicon (mono‐Si) solar cells are becoming more important for photovoltaic (PV) industry due to their high‐efficiency potential and inherently good bifaciality . Typical bifacial n ‐type mono‐Si solar cells, known as front and back contact ( n FAB) cells at SERIS, adapt the passivated emitter and rear totally diffused (PERT) p + – n – n + structure, with the use of a full area phosphorus‐doped back surface field (BSF) . Currently, three types of diffusion techniques/tools are available for BSF formation: tube diffusion using phosphoryl chloride (POCl 3 ), ion implantation, and atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD).…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%
“…There have been many studies on co-diffusion of boron and phosphorus to resolve the many steps of boron diffusion. Rothhardt et al studied co-diffusion from BSG and phosphorus doped glass, (PSG), deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), and Meier et al used BSG deposited by atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD) and POCl 3 gas ambient as a doping source [12][13][14]. These methods reduced diffusion steps compared with conventional boron diffusion using BBr 3 gas, but they are still complicated methods due to BSG deposition.…”
Section: Introductionmentioning
confidence: 99%