Low temperature (77 to 300 K) thermoelectric measurements of undoped and well characterized p-Hgl-,Cd,Te (z = 0.2) samples are reported. Analysis of the thermoelectric power is suggested on the basis of a three acceptor level model with one divalent acceptor (Hg-vacancy) and one monovalent acceptor (foreign atom). From the temperature a t which reversal of sign of the thermoelectric power takes place the concentration of holes a t 7 7 K may be simply determined. The method is also suitable for the investigation of homogeneity of wafers of Hgl-,Cd,Te with z = 0.2.Es werden thermoelektrische Messungen an undotierten und gut charakterisierten p-Hgl-,Cd,Te ( 5 = 0,2)-Proben bei niedrigen Temperaturen (77 bis 300 K) durchgefuhrt. Eine Analyse der Thermospannung wird auf der Basis eines Drei-Akzeptorenmodells mit einem zweiwertigen Akzeptor (Hg-Vakanz) und einem einwertigen Akzeptor (Fremdatom) durchgefuhrt. Aus der Temperatur, bei der eine Vorzeichenumkehr der Thermospannung stattfindet, wird in einfacher Weise die Konzentration der Locher bei 77 K bestimmt. Diese Methode ist auch fur die Untersuchung der Homogenitat von Wafern von Hgl-,Cd,Te mit x = 0,2 geeignet.