X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is used to determine the oxidation state of gold deposited from an aqueous solution of AuCl 4 -on to various oxidized surfaces of silicon. Although the observed Au4f signal decreased with the thickness of the oxide layer, the oxidation state of Au was determined as 0 for all the samples analyzed. From the angular dependence of the Si2p and Au4f signals it was determined that Au is deposited on top of the oxidized surfaces of metallic silicon. It is postulated that from an aqueous solution of AuCl 4 -, gold would deposit in its zerovalent form on to any surface due to its large and positive electrochemical reduction potential (ε red°( Au 3+ /Au) = +1.50 V) and the substrate plays a role only in providing active deposition sites. To further support the proposal, it is shown that the same process takes place even in inert and hydrophobic polypropylene substrates. Similarly, it is also shown that more gold deposits if the surface of the polypropylene is made less hydrophobic (but probably more active) via the industrially used corona discharge treatment.Key words: XPS, gold, electroless deposition, oxidized silicon surface.Résumé : On a utilisé la spectroscopie photoélectronique aux rayons X pour déterminer l'état d'oxydation de l'or déposé à partir d'une solution aqueuse de AuCl 4 -sur diverses surfaces oxydées de silicium. Même si le signal observé pour Au4f diminue avec l'épaisseur de la couche d'oxyde, on a déterminé que l'état d'oxydation de l'or est égal à zéro pour tous les échantillons analysés. En se basant sur la dépendance angulaire des signaux Si2p et Au4f, on a déterminé que l'or se déposé au sommet des surfaces oxydées du silicium métallisé. On a fait l'hypothèse que, à partir d'une solution aqueuse de AuCl 4 -, l'or se déposerait dans sa forme zérovalente sur toutes les surfaces en raison de son potentiel de réduction électrochimique élevé et positif [ε red°( Au 3+ /Au) = +1,50 V]. Pour appuyer cette hypothèse, on montre que le même processus se produit même dans des substrats inertes et polypropyléniques hydrophobes. De la même manière, on a démontré qu'il y a plus d'or qui se dépose si la surface de polypropylène est rendue moins hydrophobe (mais probablement plus réactive) par le biais d'un traitement industriel par effluve.Mots clés: spectroscopie photoélectronique à rayons X, dépôt sans électrode, surface de silicium oxydée. Communications 519