2022
DOI: 10.1109/jqe.2022.3141418
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

High Power Single Mode 1300-nm Superlattice Based VCSEL: Impact of the Buried Tunnel Junction Diameter on Performance

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
4
1

Citation Types

0
12
0
4

Year Published

2022
2022
2024
2024

Publication Types

Select...
7
2

Relationship

1
8

Authors

Journals

citations
Cited by 23 publications
(16 citation statements)
references
References 100 publications
0
12
0
4
Order By: Relevance
“…Analysis of the optical loss and gain behavior in 1300-nm WF VCSELs is discussed in detail in Ref. 15. As expected, the threshold currents rise with an increase in temperature; however, at temperatures above 70°C, there is an abrupt dependence of temperature behavior of the threshold currents accompanied by an increase in slope efficiency at low currents.…”
Section: Static Characteristicsmentioning
confidence: 73%
“…Analysis of the optical loss and gain behavior in 1300-nm WF VCSELs is discussed in detail in Ref. 15. As expected, the threshold currents rise with an increase in temperature; however, at temperatures above 70°C, there is an abrupt dependence of temperature behavior of the threshold currents accompanied by an increase in slope efficiency at low currents.…”
Section: Static Characteristicsmentioning
confidence: 73%
“…Недавно мы показали принципиальную возможность применения метода МПЭ на всех этапах создания гетероструктуры ВИЛ, включая эпитаксиальное заращивание для формирования заращенного туннельного перехода (ЗТП, англ. buried tunnel junction) [17], и продемонстрировали эффективные СП-ВИЛ спектрального диапазона 1300 нм [18,19].…”
Section: Introductionunclassified
“…Первый подход состоит в использовании активных областей InAlGaAs-InP с формированием захороненного туннельного перехода (ЗТП) для токового и оптического ограничений наряду с использованием высококонтрастных диэлектрических распределенных брэгговских отражателей (РБО) на основе CaF 2 /Si [1][2][3]. Второй подход заключается в использовании технологии двойного спекания пластин [4][5][6][7][8]. В данном случае гетероструктура активной области In(Al)GaAs-InP с ЗТП спекается с гетероструктурами верхнего и нижнего РБО на подложках GaAs с последующим формированием меза-структур [9].…”
Section: Introductionunclassified
“…В свою очередь использование активных областей на основе короткопериодных квантово-размерных сверхрешеток (СР), состоящих из чередующихся слоев InAs и GaAsN, позволяет минимизировать эффект диффузии азота из КЯ [22]. При этом наличие в сверхрешетке мини-зоны, которая находится как в области квантовых ям, так и в области барьеров, позволяет существенно увеличить интеграл перекрытия стоячей световой волны с областью, усиливающей свет, и тем самым обеспечить существенное увеличение коэффициента модального усиления [5,6,27] по сравнению с гетероструктурами на основе КЯ. Как следствие, стоит ожидать, что создание ВИЛ на основе квантово-размерных СР, состоящих из чередующихся слоев InAs и GaAsN, позволит повысить не только выходную оптическую мощность, но также и быстродействие азотсодержащих ВИЛ за счет потенциально большего модального усиления.…”
Section: Introductionunclassified