The photo and dark conductivity of boron-and phosphorus-doped amorphous silicon is measured in the temperature range from 100 to 400 K, for various doping levels. Increasing doping generally decreases the activation energy of dark conductirity, down to 0.2 eV, and also decreases the a,,-value (extrapolation of dark conductivity for T -00). This lowering of a , is explained by a temperature shift of the Fermi level plus a change in the conduction mechanism. The activation energy of photoconductivity is also lowered, a t least by phosphorus doping, which is understood by an influence of doping on the tailing of the bands.Die Dunkel-und Photoleitung von Bor-und Phosphor-dotiertem amorphem Silizium wird fur verschiedene Dotierungen zwischen 100 und 400 K gemessen. Bei wachsender Dotierung sinkt die Aktivierungsenergie der Dunkelleitfahigkeit bis herab zu 0,2 eV: der u,-Wert (die Extrapolation der Dunkelleitfiihigkeit fur T + 30) nimmt jedoch ebenfalls ab. Diese Abnahme wird durch Verschiebung des Ferminiveaus erkliirt, verbunden mit einer Anderung des Leitungsmechanismus. Die Aktivierungsenergie der Photoleitung wbd ebenfalls gesenkt, zumindest im Fall der PhosphorDotierung, was mit einer Bwinflussung der BandauslSufer durch die Dotierung erklart wird.