2021
DOI: 10.1111/adj.12820
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Iatrogenic acid‐induced gingival recession during crown cementation: A case report

Abstract: Accidental contact of various chemicals in dentistry may cause damage to the gingiva. A male patient presented for a full mouth rehabilitation with ceramic crowns. The patient underwent the steps of ceramic crown preparation uneventfully. At the time of crown delivery, cotton rolls were placed in several vestibular areas for isolation. They were regularly changed during different steps of etching and cementation process, which included the use of Multilink Primer B (Ivoclar Vivadent™). On removal of the cotton… Show more

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“…Se ha descrito que los grabados ácidos y adhesivos dentales son tóxicos para los tejidos periodontales. 7 Son pocos los casos que describen la formación de recesión gingival asociada a ácido fosfórico, así como su evolución luego de la corrección mediante colgajo de desplazado coronal e injerto de tejido conectivo subepitelial con evolución de seis meses. En el caso anteriormente descrito, luego de la revisión detallada de la historia clínica, se revela una evidente evolución rápida en la progresión de la recesión gingival (14 días), la cual pudo relacionarse directamente por la extrusión accidental del ácido grabador durante la cementación adhesiva.…”
Section: Discussionunclassified
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“…Se ha descrito que los grabados ácidos y adhesivos dentales son tóxicos para los tejidos periodontales. 7 Son pocos los casos que describen la formación de recesión gingival asociada a ácido fosfórico, así como su evolución luego de la corrección mediante colgajo de desplazado coronal e injerto de tejido conectivo subepitelial con evolución de seis meses. En el caso anteriormente descrito, luego de la revisión detallada de la historia clínica, se revela una evidente evolución rápida en la progresión de la recesión gingival (14 días), la cual pudo relacionarse directamente por la extrusión accidental del ácido grabador durante la cementación adhesiva.…”
Section: Discussionunclassified
“…6 Dentro de los agentes químicos que pueden dañar la mucosa oral se destacan: ácido fosfórico, aspirina, perborato de sodio, peróxido de hidrógeno, peróxido de carbamida, formocresol, hipoclorito de sodio, formaldehído, ácido crómico, ácido tricloroacético y barnices dentales. 7 Los ácidos fosfórico y cítrico, los cuales tienen un pH bajo (de 0-2), ejercen efectos necrosantes inmediatos (dentro de 20 segundos) tanto en los colgajos mucosos como en los tejidos periodontales. 8 Existen pocos reportes científicos que relacionen el daño periodontal causado por materiales grabadores (ácido fosfórico).…”
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