Influence of ion-plasma treatment on residual stress in the microcantilever

Влияние Низкоэнергетической Ионно-Плазменной Обработки На Остаточные Напряжения В Тонких Пленках Хрома

“…Длина структур составляла от 10 до 100 µm, ширинаот 2 до 10 µm. Маршрут изготовления подробно описан в работе [15]. После формирования мосты и кантилеверы подвергались бомбардировке ионами аргона.…”

“…Это могло наблюдаться только в том случае, если ионная бомбардировка вносила напряжения растяжения (положительного знака) в приповерхностную область пленки. Подобное влияние бомбардировки на механические напряжения было продемонстрировано в предыдущей работе [15]. Специально сформированный положительный градиент напряжений в пленке хрома толщиной 500 nm увеличивался под воздействием ионно-плазменной обработки, что соответствовало внесению напряжений растяжения.…”

“…Одним из методов воздействия на механические напряжения является ионная бомбардировка [7][8][9][10][11][12][13][14][15][16]. Она может создавать как растягивающие [8][9][10]15], так и сжимающие напряжения [7,10,13], и поэтому предоставляет широкие возможности по их регулированию. Результат бомбардировки зависит от множества факторов: температуры подложки [8,9,15], структуры пленки [12] и исходного поля напряжений [10].…”

“…Она может создавать как растягивающие [8][9][10]15], так и сжимающие напряжения [7,10,13], и поэтому предоставляет широкие возможности по их регулированию. Результат бомбардировки зависит от множества факторов: температуры подложки [8,9,15], структуры пленки [12] и исходного поля напряжений [10]. Одним из ключевых параметров является энергия ионов.…”

“…Для определения влияния ионной бомбардировки на механические напряжения обычно применяются два метода: метод кривизны [7][8][9][10][11][12][13][14][15], использующий формулу Стоуни [18], и метод рентгеновской дифрактометрии [16,19]. Оба метода дают информацию лишь о величине напряжений, усредненной по толщине пленки.…”