Влияние Низкоэнергетической Ионно-Плазменной Обработки На Остаточные Напряжения В Тонких Пленках Хрома

Формирование текстуры (100) в тонких пленках Ti под действием низкоэнергетической ионной бомбардировки

“…При этом авторами не найдено работ, посвященных влиянию на текстуру пленок Ti низкоэнергетической ионной бомбардировки, проводимой после их осаждения. Между тем такая процедура может быть применена, в том числе для изменения механических напряжений в пленках металлов [5], а в [6] плазменная обработка пленок Ti использовалась для подготовки поверхности адгезионных слоев. Целью настоящей работы является определение влияния на текстуру тонких пленок Ti бомбардировки ионами Ar, проводимой в аргоновой плазме высокочастотного (ВЧ) индукционного разряда.…”

“…Основываясь на этом факте, можно предложить следующее качественное объяснение переориентации зерен в результате ИПО. В [5,11] было показано, что ИПО приводит к увеличению сжимающих напряжений в пленках Cr, что было объяснено диффузией атомов с поверхности в межзеренные границы в рамках модели возникновения сжимающих напряжений в пленках, предложенной в работе [12]. Ионно-индуцированные сжимающие напряжения в пленках Ti могут быть движущей силой, меняющей текстуру пленки.…”