2012
DOI: 10.1016/j.jallcom.2012.03.093
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Influence of substrate temperature on thermally evaporated CdS thin films properties

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
5

Citation Types

0
9
0
9

Year Published

2015
2015
2018
2018

Publication Types

Select...
6

Relationship

0
6

Authors

Journals

citations
Cited by 16 publications
(18 citation statements)
references
References 31 publications
0
9
0
9
Order By: Relevance
“…Однак зробити шари CdS дуже тонкими (<50 нм) не можна, оскiльки цi ша-ри будуть аморфними i, отже, матимуть високий опiр, що знижує вихiднi параметри СЕ [22]. Крiм того, при товщинi меншiй, нiж 200-300 нм в плiв-ках часто спостерiгаються наскрiзнi мiкроотвори [23]. У разi плiвок CdS малої товщини (≤100 нм) може формуватися паралельний перехiд мiж CdTe i ППО, який дає значно бiльш високе значення ре-комбiнацiйного струму, нiж перехiд CdS/CdTe [23].…”
Section: дослIдження шарIв Cdsunclassified
See 4 more Smart Citations
“…Однак зробити шари CdS дуже тонкими (<50 нм) не можна, оскiльки цi ша-ри будуть аморфними i, отже, матимуть високий опiр, що знижує вихiднi параметри СЕ [22]. Крiм того, при товщинi меншiй, нiж 200-300 нм в плiв-ках часто спостерiгаються наскрiзнi мiкроотвори [23]. У разi плiвок CdS малої товщини (≤100 нм) може формуватися паралельний перехiд мiж CdTe i ППО, який дає значно бiльш високе значення ре-комбiнацiйного струму, нiж перехiд CdS/CdTe [23].…”
Section: дослIдження шарIв Cdsunclassified
“…Крiм того, при товщинi меншiй, нiж 200-300 нм в плiв-ках часто спостерiгаються наскрiзнi мiкроотвори [23]. У разi плiвок CdS малої товщини (≤100 нм) може формуватися паралельний перехiд мiж CdTe i ППО, який дає значно бiльш високе значення ре-комбiнацiйного струму, нiж перехiд CdS/CdTe [23]. Найчастiше в лiтературi вказується значення 200-300 нм для шару CdS [8].…”
Section: дослIдження шарIв Cdsunclassified
See 3 more Smart Citations