Copper deficient p-type conducting CuInSe, single crystals were implanted with 40 keV protons in the fluence range from 2.5. lOI4 to 1.5. 10l6 cm72. Over the whole fluence range the implanted layers were n-type conducting which is ascribed to passivation of the acceptors due to copper vacancies and formation of donors by hydrogen atoms located at interstitial positions. The thermal stability of the conductivity changes due to proton implantation is limited to temperatures below 100 "C.Kupferarme p-leitende CuInSe,-Einkristalle wurden mit Protonen der Energie von 40 keV im Dosisbereich von 2,5 . l O I 4 bis 1,5 . 10l6 cm-' implantiert. Die implantierten Schichten waren im gesamten Dosisbereich n-leitend, was einer Passivierung der durch Kupfervakanxen bedingten Akzeptoren und der Bildung von Donatoren durch auf Zwischengitterpliitzen eingebaute Wasserstoffatome zugeschrieben wird. Die thermische Stabilitat der durch die Protonenimplantation verursachten Leitfahigkeitsanderungen ist auf Temperaturen unterhalb 100 "C beschrankt.