Interfacial and bulk processes during oxide growth on titanium in ethylene glycol-based electrolytes

Estudio del crecimiento potenciostático de películas de nanotubos de TiO₂ y su impacto en el desempeño fotoelectroquímico

“…La caracterización mediante EIS, de la formación de películas de óxidos sobre diferentes sustratos, en medios que contienen iones fluoruro, ha sido previamente informada [54,95,97,98,113,[124][125][126][127][128][129][130][131]. Tzvetkov et al [127], estudiaron la formación de películas nanoporosas de Nb en soluciones 0.1 M Na 2 SO 4 y 0.2 % HF, mostrando que la descripción de los fenómenos que están ocurriendo sobre el electrodo, mediante un capacitor o un inductor clásico, no permiten un ajuste satisfactorio de los espectros experimentales de EIS, que interpretaron como una variación de la conductividad de la película pasiva, con su espesor.…”

“…Además, también se menciona que el espesor estimado de la capacitancia presente en altas frecuencias, es muy cercano al medido mediante TEM. Bojinov et al [97,113,131], emplearon un modelo cinético para describir el comportamiento electroquímico (espectros de EIS y cronoamperogramas) durante el crecimiento de películas pasivas de W en soluciones 1 M H 2 SO 4 y 0-0.25 M HF. Sus resultados mostraron que el principal efecto provocado por el incremento de la concentración de HF, radica en la alteración del crecimiento del óxido, y la disolución del mismo.…”

“…La mayoría de los estudios con EIS, de películas de óxido de Ti en medios con iones F -, están dirigidos a la evaluación de la velocidad de corrosión del sustrato metálico en fluidos corporales, como la saliva [129,132]. Sin embargo, existen algunas investigaciones previas en la que se estudia mediante la EIS, la anodización de sustratos de Ti en medios con F - [54,94,113,124,125,130,131]. En estos estudios no se relacionó el comportamiento electroquímico con la morfología de la película formada.…”

“…Los espectros de impedancia (Figura 3.8) muestran, para las películas crecidas a concentraciones de HF mayores o iguales a 10 mM, la presencia de por lo menos 3 constantes de tiempo, como ha sido previamente informado por otros investigadores, para el anodizado del Ti en medios con iones F - [54,94,113,124,125,130,131]. En la región de altas frecuencias, se observa un comportamiento típico de un circuito RC en paralelo, debido a la resistencia y capacitancia de la película de óxido formada sobre la superficie del metal.…”

“…Sin embargo, aparte del trabajo recientemente publicado por Bojinov [113,131], se conoce poco sobre el efecto de estas dos variables (% H 2 O y [NH 4 F]) sobre las propiedades de la película formada mediante anodizado.…”