2017 IEEE 7th International Conference Nanomaterials: Application &Amp; Properties (NAP) 2017
DOI: 10.1109/nap.2017.8190143
|View full text |Cite
|
Sign up to set email alerts
|

Intrinsic stresses in CrN coatings deposited at different angles of incidence ions

Help me understand this report

Search citation statements

Order By: Relevance

Paper Sections

Select...
3

Citation Types

0
0
0
3

Year Published

2018
2018
2018
2018

Publication Types

Select...
1

Relationship

1
0

Authors

Journals

citations
Cited by 1 publication
(3 citation statements)
references
References 9 publications
0
0
0
3
Order By: Relevance
“…где k B -постоянная Больцмана, n 0 -концентрация атомов мишени, ν -частота колебаний атома, c τ -время жизни НТП, u -энергия активации миграции дефекта. Внутренние напряжения формируются в результате образования дефектов при имплантации ионов и релаксации напряжений в ходе миграции дефектов в НТП ионов [12][13][14][15]. Для определения внутренних напряжений, возникающих в покрытиях при наклонном падении пучка ионов, необходимо вычислить объёмную деформацию мишени.…”
Section: математическая модельunclassified
See 2 more Smart Citations
“…где k B -постоянная Больцмана, n 0 -концентрация атомов мишени, ν -частота колебаний атома, c τ -время жизни НТП, u -энергия активации миграции дефекта. Внутренние напряжения формируются в результате образования дефектов при имплантации ионов и релаксации напряжений в ходе миграции дефектов в НТП ионов [12][13][14][15]. Для определения внутренних напряжений, возникающих в покрытиях при наклонном падении пучка ионов, необходимо вычислить объёмную деформацию мишени.…”
Section: математическая модельunclassified
“…Для определения внутренних напряжений, возникающих в покрытиях при наклонном падении пучка ионов, необходимо вычислить объёмную деформацию мишени. При выводе формулы для напряжений предполагаем, как и в [12][13][14][15], линейную зависимость между объемной деформацией мишени и плотностью дефектов, образующихся в результате рассеяния иона на атомах мишени. Результирующая скорость, в расчете на единицу площади, с которой дефекты внедряются в пленку, задается разностью между скоростью появления дефектов за счет имплантации ионов и скоростью их убыли за счет термоактивированной миграции.…”
Section: математическая модельunclassified
See 1 more Smart Citation