Nouvel appareillage de diffraction X pour l'analyse de l'état mécanique (contraintes et microdéformations) de films minces nanocristallins

Abstract

Rksumk : L'etat mkanique des couches minces influence considerablement l'ensemble de leurs proprietks physiques. La connaissance des contraintes residuelles et des microdeformations presentes dans ces materiaux revet donc une importance particuli6re. Le c a r d r e nanocristallin des ces films rend difficile fapplication des methodes classiques de diffraction X (sin2yr et largeur integrale ou Warren-Averbach) couramment utili&s dans le cas des khantillons massifs. En effet, les pics de diffraction sont larges et peu intenses. Nous avons mis au point un dispositif eMrimenta1 de conception originale qui permet de contourner ces difficultks. I1 s'appuie sur les trois caracttristiques suivantes: source de rayons X de forte intensit6 (rayonnement synchrotron ou generateur a anode tournante), trajet du faisceau X incident et diffract6 sous vide, et enregistrement du spectre l'aide d'un dktecteur a localisation. Les n5sultats obtenus sur des films Inox 304L et Cu-Mo illustrent bien les potentialit6s de ce nouvel appareillage.